[发明专利]一种太阳能电池片及其制备方法和一种太阳能电池组件有效
| 申请号: | 201810067074.5 | 申请日: | 2018-01-24 |
| 公开(公告)号: | CN108336229B | 公开(公告)日: | 2019-11-01 |
| 发明(设计)人: | 郑伟 | 申请(专利权)人: | 南通鸿图健康科技有限公司 |
| 主分类号: | H01L51/42 | 分类号: | H01L51/42;H01L51/44;H01L51/48 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 226300 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | 本发明提供了一种太阳能电池组件,其从下到上依次包括太阳能电池背板、第一EVA封装胶、太阳能电池片层、第二EVA封装胶以及玻璃盖板,所述太阳能电池片层包括多个串联连接的太阳能电池片,所述太阳能电池片的制备方法具体包括以下步骤:配置改性的Spiro‑OMeTAD溶液以及PEDOT:PSS溶液、n型硅片的清洗、在n型硅片的上表面通过通过金属离子辅助刻蚀法形成硅纳米线阵列、在所述硅纳米线阵列的表面依次旋涂三种改性溶液、在所述n型硅片的下表面旋涂聚甲基丙烯酸甲酯的甲苯溶液、正面电极的制备以及背面电极的制备。通过改善太阳能电池的结构以及具体制备工艺,进而得到光电转换效率稳定的太阳能电池组件。 | ||
| 搜索关键词: | 太阳能电池片 太阳能电池组件 制备 硅纳米线阵列 封装胶 旋涂 聚甲基丙烯酸甲酯 太阳能电池背板 光电转换效率 太阳能电池 背面电极 玻璃盖板 改性溶液 甲苯溶液 金属离子 正面电极 制备工艺 上表面 下表面 改性 刻蚀 清洗 配置 | ||
【主权项】:
1.一种太阳能电池片的制备方法,其特征在于:所述太阳能电池片的制备方法具体包括以下步骤:步骤(1) 第一改性Spiro‑OMeTAD溶液的配制:在1毫升氯苯溶液中加入5‑10毫克 Spiro‑OMeTAD、3‑5毫克氧化铝纳米颗粒以及2‑6毫克氧化锌纳米颗粒,然后在40‑60℃下搅拌均匀以备用;步骤(2) 第二改性Spiro‑OMeTAD溶液的配制:在1毫升氯苯溶液中加入20‑40 毫克Spiro‑OMeTAD、1‑2毫克脂肪醇聚氧乙烯醚、3‑8 毫克二硒化铌纳米片、2‑6毫克二硫化钨纳米片以及1‑5毫克硫化钴纳米片,然后在40‑60℃下搅拌均匀以备用;步骤(3) 第一改性PEDOT:PSS溶液的配制:在1克PEDOT:PSS溶液中加入40‑60毫克二甲基亚砜、5‑15 毫克聚乙二醇辛基苯基醚、5‑15毫克银金属粉末以及10‑20毫克碳纳米管,然后在50‑70℃下搅拌均匀以备用;步骤(4) n型硅片的清洗:将n型硅片依次在丙酮、乙醇、去离子水中超声清洗10‑20分钟,然后置于浓硫酸/双氧水混合溶液中,所述浓H2SO4/H2O2混合溶液中H2SO4与H2O2体积比为3:1,在100‑120℃下浸泡20‑30分钟,接着用水冲洗所述n型硅片以备用;步骤(5)在n型硅片的上表面通过金属离子辅助刻蚀法形成硅纳米线阵列;步骤(6)在所述硅纳米线阵列的表面旋涂所述第一改性Spiro‑OMeTAD溶液,旋涂所述第一改性Spiro‑OMeTAD溶液的旋涂速度为4000‑6000转/分钟以及旋涂时间为3‑6分钟,并进行第一次退火处理,以形成第一改性Spiro‑OMeTAD层;步骤(7)在所述第一改性Spiro‑OMeTAD层的表面旋涂所述第二改性Spiro‑OMeTAD溶液,旋涂所述第二改性Spiro‑OMeTAD溶液的旋涂速度为3000‑4000转/分钟以及旋涂时间为2‑5分钟,并进行第二次退火处理,以形成第二改性Spiro‑OMeTAD层;步骤(8)在所述第二改性Spiro‑OMeTAD层的表面旋涂所述第一改性PEDOT:PSS溶液,旋涂所述第一改性PEDOT:PSS溶液的旋涂速度为1500‑2500转/分钟以及旋涂时间为1‑4分钟,并进行第三次退火处理,以形成第三改性PEDOT:PSS层;步骤(9)在所述n型硅片的下表面旋涂聚甲基丙烯酸甲酯的甲苯溶液,并进行第四次退火处理,以形成聚甲基丙烯酸甲酯层;步骤(10)正面电极的制备;步骤(11)背面电极的制备。
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