[发明专利]石膏处理装置和石膏处理方法有效
| 申请号： | 201780048930.6 | 申请日： | 2017-07-14 |
| 公开（公告）号： | CN109562994B | 公开（公告）日： | 2021-09-07 |
| 发明（设计）人： | 二藤幸治;竹中彪;吉田优 | 申请（专利权）人： | 吉野石膏株式会社 |
| 主分类号： | C04B11/036 | 分类号： | C04B11/036;B01J8/38;C04B11/00 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在流化床方式的石膏处理装置和石膏处理方法中，活化或提升石膏粉体的流动性而促进石膏粉体的改性或均质化等石膏处理的作用。石膏处理装置(1)具有反应器(2)、调整空气供给口(6)、使调整气流(Af)朝上地流入反应区域(α)的水平隔壁(5)、以及在反应区域的周向上隔开角度间隔地排列的多个固定叶片(10)。熟石膏(Gb)的流化床(M)形成在反应器内。固定叶片使朝上地流入到反应区域的调整气流(Ag)向反应区域的径向外侧且沿周向偏转。熟石膏(Gb)利用调整气流在反应器内跳跃流动或跳跃移动。 | ||
| 搜索关键词： | 石膏 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种石膏处理装置，该石膏处理装置具有：反应器，其包括水平截面或水平轮廓为圆形或环状的内壁面；石膏供给部，其向该反应器内的反应区域供给石膏粉体；以及气流供给部，其配置于所述反应区域的底部，该气流供给部向该反应区域供给向上气流，利用所述向上气流对堆积于所述反应区域的底部的所述石膏粉体进行搅拌，该石膏处理装置的特征在于，该石膏处理装置具有自位于所述反应区域的中央区域的支承部起朝向所述内壁面延伸的多个固定叶片，该固定叶片在所述反应区域的周向上隔开角度间隔地排列，相邻的所述固定叶片形成供所述气流和所述石膏粉体流动的流动路径，该流动路径以使流入到所述反应区域的所述向上气流向该反应区域的径向外侧且沿周向偏转的方式倾斜。
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