[发明专利]制造以相对装置特征旋转角度定向的计量标靶系统及方法

摘要

本发明涉及一种光刻系统，其包括：照明源，其包含沿着第一方向分离且围绕光学轴对称分布的两个照明极点；图案掩模，其从所述照明源接收照明；及一组投影光学器件，其将对应于所述图案掩模的图像产生到样本上。所述图案掩模包含计量标靶图案掩模及装置图案掩模元素。所述装置图案掩模元素按装置分离距离沿着所述第一方向分布。所述计量标靶图案掩模包含一组计量标靶图案掩模元素，其具有对应于所述装置图案掩模元素的衍射图案的衍射图案。在所述样本上产生的与所述计量标靶图案掩模相关联的计量标靶沿着第二方向特性化且具有对应于在所述样本上产生的与所述装置图案掩模元素相关联的装置图案元素的印刷特性的印刷特性。

主权项

1.一种光刻系统，其包括：照明源，其包含围绕所述光刻系统的光学轴对称分布的两个照明极点，其中所述两个照明极点沿着第一方向分离；图案掩模，其经定位以从所述照明源接收照明，其中所述图案掩模包含计量标靶图案掩模及多个装置图案掩模元素，其中所述装置图案掩模元素的至少一部分按装置分离距离沿着所述第一方向分布，其中所述计量标靶图案掩模包含一组计量标靶图案掩模元素，其具有对应于所述多个装置图案掩模元素的衍射图案的衍射图案；及一组投影光学器件，其将对应于所述图案掩模的图像产生到样本上，其中可沿着不同于所述第一方向的第二方向特性化在所述样本上产生的与所述计量标靶图案掩模相关联的计量标靶，其中所述计量标靶的一或多个印刷特性对应于在所述样本上产生的与所述装置图案掩模元素相关联的装置图案元素的一或多个印刷特性。