[发明专利]一种镀膜方法、装置以及PECVD设备有效
| 申请号： | 201710981636.2 | 申请日： | 2017-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN107761077B | 公开（公告）日： | 2019-12-03 |
| 发明（设计）人： | 李广耀;袁广才;王东方;汪军;王明;刘宁;马睿 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/52 | 分类号： | C23C16/52;C23C16/46;C23C16/458;C23C16/513 |
| 代理公司： | 11319 北京润泽恒知识产权代理有限公司 | 代理人： | 莎日娜<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种镀膜装置、方法以及PECVD设备，包括：镀膜腔室及位于所述镀膜腔室内用于承载和加热待镀膜基板的载板；所述载板的承载表面朝向所述镀膜腔室的进气口，所述载板的两端分别靠近所述镀膜腔室的出气口；所述载板中间设置有旋转轴，所述载板可绕所述旋转轴在预设转动角度范围内转动；所述载板上设置有加热装置，其中，所述加热装置，铺设在所述载板上，用于对所述待镀膜基板加热，从而解决了目前镀膜方式存在成膜均一性差的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 镀膜 方法 装置 以及 pecvd 设备 | ||
【主权项】：
1.一种镀膜装置，其特征在于，包括：镀膜腔室及位于所述镀膜腔室内用于承载和加热待镀膜基板的载板；/n所述载板的承载表面朝向所述镀膜腔室的进气口，所述载板的两端分别靠近所述镀膜腔室的出气口；/n所述载板中间设置有旋转轴，所述载板可绕所述旋转轴在预设转动角度范围内转动；/n所述载板上设置有加热装置，其中，所述加热装置，铺设在所述载板上，用于对所述待镀膜基板加热；/n所述加热装置包括第一加热装置和第二加热装置；/n所述第一加热装置，均匀铺设在所述载板上，用于对所述待镀膜基板均匀加热；/n所述第二加热装置，分设在所述载板的两端，用于对所述待镀膜基板的边缘区域加热，所述载板两端的所述第二加热装置可单独控制；/n所述第一加热装置呈长方形结构，并且所述第一加热装置的线圈呈梯度排布，所述线圈的缠绕方式由外到内依次递减。/n
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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