[发明专利]修饰抗体组合物及其制备和使用方法在审
| 申请号： | 201710181616.7 | 申请日： | 2010-01-12 |
| 公开（公告）号： | CN106995495A | 公开（公告）日： | 2017-08-01 |
| 发明（设计）人： | N·E·斯坦格莉安奥;J·W·威斯特;K·卡姆斯;P·H·贝塞特;F·格鲁克;J·萨格特;P·道格尔迪 | 申请（专利权）人： | 希托马克斯医疗有限责任公司 |
| 主分类号： | C07K16/00 | 分类号： | C07K16/00;C07K16/22;C07K16/28;C07K19/00;A61K39/395;A61P35/00;G01N33/68 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人： | 过晓东 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供了含有由掩蔽基团(MM)修饰的抗体或抗体片段(AB)的抗体的修饰抗体。这些修饰抗体可以进一步耦合到一个可裂解基团(CM)，产生激活的抗体(AAS)，其中CM是能够被裂解、还原、光解，或以其他方式修饰。AAs可以表现出激活状态，使AB更易于到达靶点，例如，在能够裂解、还原或光解CM的药剂存在条件下，通过CM的裂解、还原或光解去除MM。本发明还提供了这种修饰抗体和激活抗体的制备和应用方法。 | ||
| 搜索关键词： | 修饰 抗体 组合 及其 制备 使用方法 | ||
【主权项】：
一种修饰抗体包括：一种抗体或一种抗体片段(AB)，能够特异性的结合其靶点，与一种掩蔽基团(MM)耦合，其中，MM的耦合降低了AB与其靶点结合的能力，这样，耦合了MM的AB对其靶点的离解常数(Kd)比没有耦合MM的AB对其靶点的Kd至少大100倍。
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