[发明专利]具有同轴施加器、用于产生等离子体的基本装置有效

专利信息
申请号: 201680064747.0 申请日: 2016-10-04
公开(公告)号: CN108353492B 公开(公告)日: 2020-08-25
发明(设计)人: 路易斯·拉特拉斯;玛丽莱娜·勒多尤 申请(专利权)人: 塞勒姆电子与微波工业应用研究公司
主分类号: H05H1/46 分类号: H05H1/46;H01J37/32
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 康建峰;杨林森
地址: 法国米*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种用于产生等离子体的基本装置(1),包括:微波功率的同轴施加器(2),该同轴施加器包括传导中央芯体(23)、包围所述中央芯体的传导外护罩(24)以及用于传播微波能量的介质(25),所述介质位于中央芯体和护罩之间;以及用于耦合到微波发生器的系统(3),该系统被放置在护罩上,其中,所述护罩具有利用由对微波能量透明的电介质材料制成的绝缘体(26)堵塞的近端,并且该绝缘体(26)具有被设置用于与位于室内部的待激励的气体接触的外表面(27),并且其中,绝缘体从护罩向外延伸并且其外表面(27)是非平面的并且突出到护罩的外部,该体的外径从护罩至其顶端减小。本发明适用于产生等离子体的设备的领域。
搜索关键词: 具有 同轴 施加 用于 产生 等离子体 基本 装置
【主权项】:
1.一种用于产生等离子体的基本装置(1),包括:微波功率的同轴施加器(2),所述同轴施加器包括沿主轴线(AP)延伸的传导中央芯体(23)、包围所述中央芯体(23)的传导外护罩(24)、位于所述中央芯体(23)和所述护罩(24)之间的用于传播微波能量的介质(25);用于耦合到微波能量发生器的耦合系统(3),所述耦合系统(3)被设置在所述外护罩(24)上,其中所述外护罩(24)具有通过由对所述微波能量透明的电介质材料制成的绝缘体(26)封闭的近端,并且所述绝缘体(26)具有旨在与位于室(4)内部的待激励的气体接触的外表面(27),所述外表面(27)具有关于所述主轴线(AP)的旋转对称性,其中所述绝缘体(26)根据所述主轴线(AP)向所述护罩(24)外突出,所述基本装置(1)的特征在于:所述外表面(27)是非平面的并且伸出到所述护罩(24)外部,并且具有从所述护罩(24)开始直到所述外表面的顶端沿所述主轴线(AP)减小的外径。
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  • 本发明公开一种调整耦合线圈位置实现引出粒子密度调节的装置,包含放电腔体、上过渡法兰、下过渡法兰、耦合线圈、绝缘部件、线圈支架、步进电机及齿轮组、滑轨、柔性电缆、射频功率源和和阻抗匹配网络。耦合线圈与放电腔体相对位置不固定,耦合线圈通过绝缘部件连接线圈支架,线圈支架同时容纳步进电机及齿轮组的安装位置,通过控制步进电机在滑轨上的运动来调节耦合线圈在放电腔体的轴向上进行运动,调整下过渡法兰附近的等离子体密度,实现引出粒子密度调节。耦合线圈与阻抗匹配网络之间通过柔性电缆连接。本发明降低了对射频功率源调整响应的要求,降低阻抗匹配网络所需要的调节范围,增强射频等离子体放电的稳定性,降低系统操作的复杂程度。
  • 射频电离装置、射频中和器及其控制方法-202111670950.1
  • 刘伟基;吴秋生;冀鸣;赵刚;易洪波 - 中山市博顿光电科技有限公司;佛山市博顿光电科技有限公司
  • 2021-12-31 - 2023-07-25 - H05H1/46
  • 本申请涉及一种射频电离装置、射频中和器及其控制方法;所述射频电离装置,应用于射频中和器,包括:电离腔室以及射频线圈;所述电离腔室的侧壁内置有螺旋通道;所述射频线圈为螺旋形状设计,且结构与所述螺旋通道结构一致;所述射频线圈通过螺旋方式由所述电离腔室的一端安装进入所述螺旋通道;所述射频线圈的两端连接射频线;上述技术方案,通过在电离腔室的侧壁内置螺旋通道,射频线圈被牢固地固定在螺旋通道内,射频使用效率更高;降低了氧化几率,提升射频中和器的使用效果。另外,通过射频中和器控制方法,降低了射频中和器启动和调节过程的操作复杂性,提升了射频中和器的控制效率。
  • 微波等离子体发生装置及等离子蚀刻设备-202110254955.X
  • 赵义党;李志强;李志华;廖文晗;贝亮 - 珠海恒格微电子装备有限公司
  • 2021-03-09 - 2023-07-25 - H05H1/46
  • 本发明涉及电路板加工设备技术领域,尤其涉及一种微波等离子体发生装置及等离子蚀刻设备;本发明的微波等离子体发生装置在的等离子腔的上端设置微波导入腔,并且微波导入腔和等离子腔之间通过石英板隔开,等离子腔连接第一冷却组件,所述第一冷却组件为形成在所述冷却板上的环形冷流道,保证整个等离子体发生装置的散热效果,从而延长装置的使用寿命,并且该装置长时间使用后仍可以均匀地产生等离子体,保证蚀刻的质量和效率;本发明的等离子蚀刻设备采用上述的微波等离子体发生装置,能够稳定且均匀地蚀刻电路板,保证电路板的蚀刻质量,延长整个设备的使用寿命。
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