[发明专利]一种有效抑制氧化镓晶体缺陷的生长装置有效

专利信息
申请号: 201610615336.8 申请日: 2016-08-01
公开(公告)号: CN105970290B 公开(公告)日: 2019-03-08
发明(设计)人: 徐永宽;练小正;于凯;霍晓青;张颖武;张政;程红娟;李璐杰;张志鹏 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第四十六研究所
主分类号: C30B29/16 分类号: C30B29/16;C30B15/00
代理公司: 天津中环专利商标代理有限公司 12105 代理人: 王凤英
地址: 300220*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明公开了一种有效抑制氧化镓晶体缺陷的生长装置。该装置包括构成单晶炉内多个热场部件,多个热场部件水平且同中心安装;热场中心内嵌有发热体和铱坩埚,由圆形感应线圈进行加热,发热体与铱坩埚分离,两者之间留有间隙;热场部件包括用于支撑铱反射屏的氧化锆内保温筒;覆盖在铱反射屏之上的上部保温部件,其上留有籽晶杆入口;环绕氧化锆内保温筒的中部保温部件;环绕铱坩埚和发热体的下部保温部件。该装置设计能够减少铱坩埚的损耗,有效抑制晶体内部杂质元素的含量,从而能够很好地抑制晶体内部缺陷,延长坩埚使用寿命,为实现大规模生产高质量、低成本的氧化镓单晶奠定了基础。
搜索关键词: 一种 有效 抑制 氧化 晶体缺陷 生长 装置
【主权项】:
1.一种有效抑制氧化镓晶体缺陷的生长装置,其特征在于,该装置包括构成单晶炉内用于保温和加热热场的多个热场部件,多个热场部件水平且同中心安装;热场中心内嵌有发热体(8)和铱坩埚(7),由圆形感应线圈(10)同时对发热体(8)以及铱坩埚(7)进行加热,发热体(8)与铱坩埚(7)分离,两者之间留有间隙;热场部件包括用于支撑铱反射屏(9)的氧化锆内保温筒(4),氧化锆内保温筒(4)位于发热体(8)之上,由发热体(8)支撑;包括覆盖在铱反射屏(9)之上的上部保温部件(2),其上留有籽晶杆入口(1);包括环绕氧化锆内保温筒(4)的中部保温部件(3);还包括环绕铱坩埚(7)和发热体(8)的下部保温部件(6);所述发热体(8)为圆筒状,上下开口;所述铱反射屏(9)形状为中心开孔的铱圆片制成,铱反射屏(9)位于铱坩埚(7)正上方;各热场部件材料的纯度均为99.7%以上。
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