[发明专利]等离子体处理装置及其清洗方法

摘要

本发明公开了一种等离子体处理装置的清洗方法，包括处理腔体内的部件清洗步骤及升降顶针表面的清洗步骤，施加射频功率源至基座，向处理腔体内引入清洗用反应气体，射频功率将清洗用反应气体激发为清洗等离子体，以对处理腔体内的各部件进行等离子体清洗；施加交流电源至静电夹盘内的夹持电极，并将基座接地，向处理腔体内引入清洗用反应气体，清洗用反应气体在升降顶针的通道内形成局部DBD等离子体，以对升降顶针的表面进行局部增强的等离子体清洗；所述处理腔体内的部件清洗步骤和升降顶针表面的清洗步骤顺序可换。本发明利用介质阻挡放电的办法（DBD）在升降顶针周围形成局域性的等离子体，可以有效的清洗附着在升降顶针上的聚合物。

主权项

一种等离子体处理装置，其特征在于，包含：处理腔体；所述处理腔体内的底部设有基座；所述基座的上方设有静电夹盘，所述静电夹盘用于承载晶圆；升降顶针，竖向穿过所述基座与所述静电夹盘，并与基座及静电夹盘分别留有间隙，所述间隙作为升降顶针的通道；所述静电夹盘内部埋设有夹持电极；所述处理腔体内的顶部设有与夹持电极对应的上电极，所述上电极接地；所述夹持电极上可选择施加有交流电源或高压直流电源中的一个，当所述夹持电极上施加有高压直流电源时，所述夹持电极上产生静电吸力，用于夹持固定静电夹盘上的晶圆，当所述夹持电极上施加有交流电源时，所述交流电源用于在所述升降顶针的通道内产生清洗等离子体。