[发明专利]用于周边曝光装置的光照射装置

摘要

本发明提供一种用于周边曝光装置的光照射装置，可有效抑制图形损坏的发生，同时还可以对电路图形成区域和晶片边缘部之间的光照射，其具有急剧上升的照射强度分布。所述用于周边曝光装置的光照射装置，具备有射出光的光源，向待照射物的边缘部周边照射该光、并对该边缘部位进行曝光；其中光源形成指定的光强分布，待照射物的边缘部周边的光强，随待照射物由内侧向外侧变低。

主权项

一种用于周边曝光装置的光照射装置，为具备射出光的光源，且向待照射物的边缘部周边照射所述光并对所述边缘部进行曝光的用于周边曝光装置的光照射装置，其特征在于，所述光源具备有放射所述光的放电灯，以及由对所述放电灯的光进行导光的多数的光纤线构成的光导，所述光导具有光入射面以及光出射面，所述光入射面上所述多数的光纤线收拢成圆形，且来自所述放电灯的光射入所述光入射面，所述光出射面上所述多数的光纤线收拢成矩形，且将从所述放电灯射入的光射出，所述光出射面由第1区域以及第2区域构成，所述第1区域配置有在所述光入射面上位于中心部的所述多数的光纤线的一部分，所述第2区域配置有在所述光入射面上位于周边部的所述多数的光纤线的一部分，在所述待照射物的边缘部周边，所述第1区域射出的光比所述第2区域射出的光更靠近所述待照射物的内侧，构成为所述待照射物的边缘部周边的所述光的强度，随所述待照射物由内侧向外侧变低。