[发明专利]一种氧化硅红外增透氧化钒薄膜的制备方法有效
| 申请号： | 201510415525.6 | 申请日： | 2015-07-15 |
| 公开（公告）号： | CN104928641B | 公开（公告）日： | 2017-11-17 |
| 发明（设计）人： | 郭帅;朱嘉琦;代兵;杨磊;杨秋玲;杨振怀 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工业大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/08;C23C14/10 |
| 代理公司： | 哈尔滨市松花江专利商标事务所23109 | 代理人： | 侯静 |
| 地址： | 150001 黑龙*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 一种氧化硅红外增透氧化钒薄膜的制备方法，本发明涉及氧化硅红外增透氧化钒薄膜的制备方法。本发明要解决现有VO2薄膜红外透过率低和耐候性差的问题。方法一、清洗；二、镀膜前准备工作；三、镀制VO2薄膜；四、退火；五、镀制SiO2薄膜；六、关机，即完成氧化硅红外增透氧化钒薄膜的制备方法。本发明用于氧化硅红外增透氧化钒薄膜的制备方法。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 氧化 红外 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种氧化硅红外增透氧化钒薄膜的制备方法，其特征在于一种氧化硅红外增透氧化钒薄膜的制备方法是按以下步骤完成的：一、清洗：在超声功率为300W～600W的条件下，将V靶和Si靶分别依次置于丙酮中清洗15min～30min、乙醇中清洗15min～30min和去离子水中清洗15min～30min，得到清洗后的V靶和清洗后的Si靶；在超声功率为300W～600W的条件下，将蓝宝石衬底依次置于丙酮中清洗15min～30min、乙醇中清洗15min～30min和去离子水中清洗15min～30min，得到清洗后的蓝宝石衬底；二、镀膜前准备工作：首先将清洗后的V靶和清洗后的Si靶安装至磁控溅射靶上，再将清洗后的蓝宝石衬底置于高真空磁控溅射镀膜系统内的加热台上的中心位置，然后启动高真空磁控溅射镀膜系统真空抽气系统，使高真空磁控溅射镀膜系统舱体内真空度达到4.5×10‑4Pa～8.0×10‑4Pa；三、镀制VO2薄膜：首先向真空舱中通入氩气，通过控制氩气气体流量为50sccm～150sccm，调节真空舱压强为4.5Pa～6.5Pa，然后在压强为4.5Pa～6.5Pa及清洗功率为100W的条件下，利用电离电源对V靶和蓝宝石衬底同时进行启辉清洗，清洗时间为10min，清洗结束后，利用射频电源将V靶启辉，在压强为4.5Pa～6.5Pa及功率为60W～200W的条件下，预溅射5min～10min，预溅射结束后，通入氧气，通过控制氧气气体流量为2sccm～10sccm，将真空舱内气体压强降至0.8Pa～1.2Pa，保持V靶溅射功率为60W～200W，在压强为0.8Pa～1.2Pa及功率为60W～200W的条件下，向蓝宝石衬底表面镀膜，镀膜时间为1h～2h，得到表面镀有VO2薄膜的蓝宝石衬底；四、退火：将真空舱抽真空至真空度为1.0×10‑4Pa～8.0×10‑4Pa，然后启动加热装置，加热表面镀有VO2薄膜的蓝宝石衬底温度至400℃，退火1h～2h，设备自然冷却，得到带有VO2薄膜的蓝宝石衬底；五、镀制SiO2薄膜：将真空舱中通入氩气，通过控制氩气的气体流量为20sccm～80sccm，调节真空舱压强为4.5Pa～6.5Pa，然后在压强为4.5Pa～6.5Pa及清洗功率为100W的条件下，利用电离电源对Si靶进行启辉清洗，清洗时间为10min，清洗结束后，利用射频电源将Si靶启辉，在压强为4.5Pa～6.5Pa及功率为50W～150W的条件下，预溅射5min～10min，预溅射结束后，通入氧气，通过控制氧气气体流量为5sccm～55sccm，将真空舱内气体压强降至0.8Pa～1.2Pa，保持Si靶溅射功率为50W～150W，在压强为0.8Pa～1.2Pa及功率为50W～150W的条件下，向带有VO2薄膜的蓝宝石衬底表面镀膜，镀膜时间为1h～4h，得到表面镀有SiO2膜层的VO2薄膜的蓝宝石衬底；六、关机：关闭所有电源和气体，即完成氧化硅红外增透氧化钒薄膜的制备方法；步骤四制备的带有VO2薄膜的蓝宝石衬底表面VO2薄膜厚度为115nm～230nm；步骤五制备的表面镀有SiO2膜层的VO2薄膜的蓝宝石衬底表面的SiO2薄膜的厚度为730nm～960nm。
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- 一种绕线式电弧靶装置，包括装置本体、密封端盖和水冷端头；密封端盖设置在装置本体的两端；装置本体的一端穿过密封端盖与水冷端头连接，且水冷端头上设置动力组件；装置本体整体呈圆柱形；装置本体包括靶材层和磁钢组件；靶材层设置在磁钢组件的外周；靶材层两端与密封端盖密封设置，以在靶材层内部形成密封空间；磁钢组件包括连接件、磁钢和线圈；连接件呈筒状，连接件设置在靶材层的内周；线圈缠绕在磁钢的外周，线圈的外周压紧连接件的内周。本发明中，提高了靶材的利用率，为镀膜行业带来了直接经济利益，减少了浪费，降低了成本；本发明，提高靶材粒子的沉积速度，提高了镀膜时间，减短了镀膜生产周期，提高了生产效率。
- 刀具表面多元多层涂层制备方法-201910871461.9
- 卢帅;王砚军;孟德章;高鹏远 - 济南大学
- 2019-09-16 - 2019-11-05 - C23C14/35
- 本发明公开了一种刀具表面涂层的制备方法，其包括以下步骤：（1）将给定配比的钛粉末和铝粉末混合均匀，制成TiAl靶材；（2）制备纯度99.99%的Cr靶材和Si靶材；（3）对清洁后的刀具表面进行打磨、抛光、超声波清洗处理；（4）采用磁控溅射工艺三靶材溅射刀具表面；（5）在真空室下冷却一段时间（防止涂层氧化开裂）取出刀具；（6）依据本发明的制备方法所制备涂层具有硬度高、高耐磨、抗氧化而且自体无污染。
- 一种光缆及其制备方法-201710416895.0
- 赵琰;张东;李昱材;宋世巍;王健;毛红艳;于源;杜士鹏;郑俊哲;柯昀杰;王帅杰 - 沈阳工程学院
- 2017-06-06 - 2019-11-05 - C23C14/35
- 本发明涉及一种光缆及其制备方法，光缆上由内向外依次沉积MgO保护薄膜和BCN保护薄膜，得到具有BCN/MgO双层保护薄膜的光缆，MgO保护薄膜的厚度100nm～200nm，BCN保护薄膜的厚度200nm～400nm；所述BCN保护薄膜的B、C、N摩尔浓度比为1～3：2～5：10～20；其制备方法：光缆擦拭干净后，氮气吹干；在光缆上沉积制备MgO保护薄膜，在MgO保护薄膜的基础上沉积BCN保护薄膜；得到BCN/MgO双层保护薄膜；本发明利用可精确控制的低温沉积的溅射技术，在光缆表面沉积出高质量的BCN/MgO保护薄膜，BCN/MgO薄膜具有耐酸碱，抗腐蚀，很大程度减轻光缆保护套的重量。
- 用于修补平面沉积膜层的自吸式磁控溅射系统及溅射方法-201810226135.8
- 朱嘉琦;杨磊;杨振怀;陈学儒;郭帅;高岗;夏菲;代兵 - 哈尔滨工业大学
- 2018-03-19 - 2019-11-05 - C23C14/35
- 用于修补平面沉积膜层的自吸式磁控溅射系统及溅射方法，它涉及一种磁控溅射系统及溅射方法。本发明为了解决现有的大型平面结构件表面膜层发生脱落、起皮等现象后，存在不易进行再次镀膜修复，直接影响到结构件或是功能件的寿命和功能性的问题。本发明包括真空室组件、磁控靶挡板组件和磁控靶组件，磁控靶挡板组件通过控制第一手轮的旋转，使得挡板轴运动，同时万向节发生运动带动挡板的左右运动，实现遮挡溅射辉光的作用；磁控靶通过直靶支杆和靶支座固定在真空室桶内，采用屏蔽靶套套在永磁靶头上，防止溅射过程中辉光收到外界环境干扰。溅射方法包括准备工作、抽真空、起辉、镀膜修补和取下系统。本发明用于修补平面沉积膜层中。
- 一种新型磁控溅射导向式泵抽装置-201920062199.9
- 文继志;张浙军 - 威海斡兹真空科技有限公司
- 2019-01-15 - 2019-11-05 - C23C14/35
- 本申请公开了一种新型磁控溅射导向式泵抽装置，包括泵壳，所述泵壳的内部套有一个圆柱体部件，所述圆柱体部件内焊接式安装有导向槽，所述导向槽从所述圆柱体部件的底端回旋式延伸至顶端，所述导向槽包括柱体、凹槽、薄膜和凸起，所述柱体上设有所述凹槽，所述凹槽呈锯齿状均匀的排列在所述柱体的外表面上，所述凹槽的外部铺设有一层所述薄膜，所述薄膜的表面上均匀的设有若干个所述凸起，所述圆柱体部件的前端设有圆环，所述圆环设置在所述圆柱体部件的内侧，所述圆环上安装有扇叶。本申请的上述技术方案采用内回旋设计形式，并设置多种增加阻力的结构，以增加泵抽流阻，在保证工艺真空的前提下减少对工艺气体的扰动与捕集，起到稳定工艺的目的。
- 一种新型磁控阴极多段式供气装置-201920071343.5
- 张浙军;陈刚 - 威海斡兹真空科技有限公司
- 2019-01-16 - 2019-11-05 - C23C14/35
- 本申请公开了一种新型磁控阴极多段式供气装置，包括供气管道、入气管道、抽气装置、排气管道和固定套，所述供气管道包括若干截供气连接段；在所述供气管道上设有所述入气管道，在所述供气管道的头端安装固定有所述抽气装置，所述抽气装置的出气口与所述排气管道连接，且在所述入气管道的内部安装有滤网，在所述入气管道的内壁上设有滑槽，在所述滑槽的尾端设有固定齿，在所述滤网的外边缘上设有与所述固定齿相匹配的固定槽。本申请便于对气体进行存储及均匀的抽送气体至气室内；供气管道上供气连接段之间可进行拆卸，便于对管道内部进行清理；滤网可以保证进入气室内气体的干净，并且滤网可进行便捷的取出更换。
- 一种彩色纤维面料及其生产方法-201910601301.2
- 余荣沾;关德辉;王琛文;王忠雨;张欣 - 北京欣荣尖端科技有限公司
- 2019-07-03 - 2019-11-01 - C23C14/35
- 本发明提供一种彩色纤维面料的生产方法包括以下步骤：通过真空沉积方法，纤维面料至少有一个表面沉积复合膜层，所述复合膜层自下而上依次包括缓冲层、反射层、第一保护层、生色层和第二保护层；所述生色层包括ZnO、Fe2O3、TiO2和CuO中至少一种；沉积所述复合膜层的各层时，需持续通入工作气体，所述工作气体包括氩气和/或氮气和/或氧气。本发明提供的生产方法，纤维面料色彩的调整控制简单易行，解决金属膜层易被氧化的问题，提高纤维面料表面膜层的抗氧化能力，使其表面镀覆的有色膜层更加持久耐用，适宜工业化生产。本发明还提供一种的彩色纤维，具有丰富的色彩和良好的色牢度，可通过工业化方法制备。
- 一种通过磁控溅射直流共溅射制备Ni-Co-Mn-Ti合金薄膜的方法-201610871554.8
- 马胜灿;刘凯;张林;钟震晨;钟明龙;江庆政 - 江西理工大学
- 2016-09-30 - 2019-11-01 - C23C14/35
- 本发明提供了一种通过磁控溅射直流共溅射制备Ni‑Co‑Mn‑Ti合金薄膜的方法，其步骤为：(一)选取靶材：按化学计量比选取NiMnTi合金靶和Co单质靶；(二)共溅射：1.基底加热：将选好的合金靶和单质靶放在溅射室的溅射靶之上固定好，关闭腔盖抽真空到10‑4Pa以下后加热基底，打开基底加热电源，调整加热旋钮到合适位置开始加热；2.溅射室压强调整：充入纯度为99.999％的氩气，通过调整流量仪和闸板阀控制溅射室内压强到合适大小；3.直流共溅射：调整溅射靶的功率旋钮到合适范围开始共溅射，溅射一定时间后停止溅射。
- 彩色薄膜及其形成方法-201811486188.X
- 丁志明;张惇易 - 丁志明
- 2018-12-06 - 2019-10-29 - C23C14/35
- 本发明提供一种彩色薄膜及其形成方法。在一些实施例此方法使用单一纯钛靶材，通过调整氮气通入量、工作压力、溅射功率以及溅射时间，改变氮氧化钛层中的氮氧莫耳比值，以获得具有不同呈色及厚度的单层氮氧化钛彩色薄膜。此彩色薄膜具有良好的附着性、平坦表面及金属光泽。
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