[发明专利]一种SGLT-2抑制剂中间体的合成方法有效
| 申请号： | 201510343485.9 | 申请日： | 2015-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN106316803B | 公开（公告）日： | 2019-07-09 |
| 发明（设计）人： | 林文清;郑宏杰;林川华;沈陈健;刘守宣 | 申请（专利权）人： | 重庆博腾制药科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C07C43/225 | 分类号： | C07C43/225;C07C41/18 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 李进 |
| 地址： | 401120 重*** | 国省代码： | 重庆;50 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种SGLT‑2抑制剂中间体的制备方法。该方法主要是利用硼氢化钠(NaBH4)和三甲基氯硅烷(TMSCl)复合还原剂，将羰基还原为亚甲基。该路线具有副反应少、对环境相对友好、价格便宜、原料易得和利于规模化生产等特点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 sglt 抑制剂 中间体 合成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制备SGLT‑2抑制剂中间体(式I)的方法，其特征在于，由式II化合物经NaBH4/TMSCl复合体系还原得到式I化合物：![]()
其中，X为卤素；其中，反应是在三氟化硼乙醚络合物存在的条件下进行的。
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