[发明专利]一种研磨液、制备研磨液的方法和化学机械研磨方法有效
| 申请号： | 201510021240.4 | 申请日： | 2015-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN105838325B | 公开（公告）日： | 2019-04-09 |
| 发明（设计）人： | 王芬;王立众;杨志强;谭玉荣 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 北京市磐华律师事务所 11336 | 代理人： | 董巍;高伟 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种研磨液，包括(Fe3N)SiO2颗粒和溶剂，所述(Fe3N)SiO2颗粒的含量为所述研磨液总重的5重量％至35重量％。本发明还提供了制备研磨液的方法，包括：制备(Fe3N)SiO2颗粒的步骤；和将所述(Fe3N)SiO2颗粒与溶剂混合而制备(Fe3N)SiO2溶液的步骤。本发明还提供了使用本发明的研磨液进行化学机械研磨的方法。本发明的研磨液因含有单分散性的磁性(Fe3N)SiO2颗粒，与传统的研磨液相比，在磁场中的黏度急剧增加，从而有效地减少了在存储或运输的过程中产生的沉淀，确保了CMP工艺的稳定性，减少了晶圆的刮痕问题或粗糙缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 研磨 制备 方法 化学 机械 | ||
【主权项】：
1.一种研磨液，包括磁性(Fe3N)SiO2颗粒和溶剂，所述(Fe3N)SiO2颗粒的含量为所述研磨液总重的5重量％至35重量％，所述磁性研磨颗粒(Fe3N)SiO2具有以SiO2壳包覆磁性核Fe3N的核壳式结构，所述(Fe3N)SiO2颗粒的平均粒径为450nm‑550nm，所述(Fe3N)SiO2颗粒中的Fe3N核的平均粒径为80nm‑250nm，所述(Fe3N)SiO2颗粒的饱和磁化强度为180KA/m‑320KA/m，且所述研磨液在磁场中的黏度大于80Pa·s。
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