[实用新型]就地高纯锗γ谱仪角响应校准刻度装置有效
| 申请号： | 201420642498.7 | 申请日： | 2014-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN204177979U | 公开（公告）日： | 2015-02-25 |
| 发明（设计）人： | 吴永乐;岳会国;王超;董淑强;李宏宇 | 申请（专利权）人： | 环境保护部核与辐射安全中心 |
| 主分类号： | G01T1/36 | 分类号： | G01T1/36 |
| 代理公司： | 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 | 代理人： | 许志勇 |
| 地址： | 100082 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型提供了一种就地高纯锗γ谱仪角响应校准刻度装置，其特征在于包括：探测器定位组件，贴合就地高纯锗γ谱仪的探测器而放置，用于固定探测器的位置；刻度源放置轨道，刻度源放置轨道为0～90°的弧形，在刻度源放置轨道上，在光子入射角θ＝0°和θ＝90°之间的位置上每隔一定间隔设置一个刻度源放置孔；以及刻度源放置轨道定位组件，紧贴刻度源放置轨道，用于固定刻度源放置轨道的位置。根据本实用新型的技术方案，能够简单、准确、高效地实现就地高纯锗γ谱仪角响应校准刻度。 | ||
| 搜索关键词： | 就地 高纯 谱仪角 响应 校准 刻度 装置 | ||
【主权项】：
一种就地高纯锗γ谱仪角响应校准刻度装置，其特征在于包括：探测器定位组件，贴合所述就地高纯锗γ谱仪的探测器而放置，用于固定所述探测器的位置；刻度源放置轨道，所述刻度源放置轨道为0～90°的弧形，在刻度源放置轨道上，在光子入射角θ＝0°和θ＝90°之间的位置上每隔一定间隔设置一个刻度源放置孔；以及刻度源放置轨道定位组件，紧贴所述刻度源放置轨道，用于固定所述刻度源放置轨道的位置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于环境保护部核与辐射安全中心，未经环境保护部核与辐射安全中心许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201420642498.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
