[发明专利]电流施加方法和电流施加装置有效

专利信息
申请号: 201410186841.6 申请日: 2014-05-05
公开(公告)号: CN104142412B 公开(公告)日: 2017-04-12
发明(设计)人: 赤堀重人;神原将郎 申请(专利权)人: 本田技研工业株式会社
主分类号: G01R1/067 分类号: G01R1/067;G01R31/26
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司11127 代理人: 李辉,黄纶伟
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供一种电流施加方法和电流施加装置,防止因半导体内的残留电力所引起的半导体的破坏。一种对功率半导体(100)施加电流的电流施加方法,该功率半导体具有第1信号引脚用接触区域(102),其导通第1电流;和接触体用接触区域(101),其与第1信号引脚用接触区域(102)电连接,且导通第2电流,该电流施加方法包括步骤S1,使探头装置(1)的第1信号引脚(32)与第1信号引脚用接触区域(102)接触,将残留在第1信号引脚用接触区域(102)和接触体用接触区域(101)中的残留电力除去;和步骤S3、S4,在步骤S1后,使探头装置(1)的接触体(2)的接触部(21)与接触体用接触区域(101)接触,导通第1电流和第2电流。
搜索关键词: 电流 施加 方法 装置
【主权项】:
一种电流施加方法,其是对半导体施加电流的电流施加方法,所述半导体具有:第1电流通电部,其导通第1电流;和第2电流通电部,其与所述第1电流通电部电连接,且导通第2电流,所述电流施加方法的特征在于,所述电流施加方法包括:残留电力除去工序,使电流施加装置的第1电极与所述第1电流通电部接触,将残留在所述第1电流通电部和所述第2电流通电部中的残留电力除去;和主电流通电工序,在所述残留电力除去工序后,使所述电流施加装置的第2电极与所述第2电流通电部接触,导通所述第1电流和所述第2电流。
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