[发明专利]超级结器件及其制造方法有效
申请号: | 201310374023.4 | 申请日: | 2013-08-23 |
公开(公告)号: | CN104425596B | 公开(公告)日: | 2017-04-05 |
发明(设计)人: | 肖胜安 | 申请(专利权)人: | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/06;H01L21/336 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司31211 | 代理人: | 丁纪铁 |
地址: | 201203 上海市浦东*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种超级结器件,电流流动区包括多个交替排列的N型薄层和P型薄层,N型薄层都包括中间的高电阻率部分和两侧的低电阻率部分,N型薄层和P型薄层的电荷不平衡,N型薄层的低电阻率部分和P型薄层的电荷平衡;P型薄层不能对高电阻率部分进行完全横向耗尽,随着反向偏压的增加N型薄层顶部的P阱对N型薄层的高电阻率部分进行逐渐扩展的纵向耗尽。本发明还公开了一种超级结器件的制造方法。本发明能提高器件的反向恢复特性,且比导通电阻较低。 | ||
搜索关键词: | 超级 器件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种超级结器件,超级结器件的中间区域为电流流动区,终端保护结构环绕于所述电流流动区的外周;其特征在于:电流流动区包括多个交替排列的N型薄层和P型薄层,在所述N型薄层和所述P型薄层的顶部形成有P阱;所述N型薄层包括高电阻率部分和低电阻率部分,所述高电阻率部分为所述N型薄层的中间部分,所述低电阻率部分位于所述高电阻率部分的两侧且和邻近的所述P型薄层相接触;所述高电阻率部分和所述低电阻率部分的电阻率之比大于5:1;所述N型薄层和其邻近的所述P型薄层的电荷不平衡,所述N型薄层的所述低电阻率部分和其邻近的所述P型薄层的电荷平衡,所述N型薄层和所述P型薄层之间连接反偏电压时,所述高电阻率部分不被所述P型薄层完全横向耗尽,所述高电阻率部分的未被所述P型薄层横向耗尽的部分和所述P阱之间形成纵向耗尽,且在反偏电压增加时,所述P阱对所述高电阻率部分的纵向耗尽的深度增加。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华虹宏力半导体制造有限公司,未经上海华虹宏力半导体制造有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310374023.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:检测结构及其形成方法、检测方法
- 下一篇:鳍式场效应晶体管及其形成方法
- 同类专利
- 专利分类