[实用新型]一种掩模板有效

专利信息
申请号: 201220005245.X 申请日: 2012-01-06
公开(公告)号: CN202421717U 公开(公告)日: 2012-09-05
发明(设计)人: 史大为;郭建 申请(专利权)人: 北京京东方光电科技有限公司
主分类号: G03F1/54 分类号: G03F1/54;G02F1/1343
代理公司: 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 代理人: 蒋雅洁;王黎延
地址: 100176 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型提供了一种掩模板,所述掩模板包括相互对合的上、下基板、封装于所述上、下基板之间的液晶分子、贴附于上基板和下基板外表面且上下对称的电极。本实用新型通过利用液晶分子的特性,在相互对合的上、下基板之间封装液晶分子,通过外加电压选择性地控制贴附于上、下基板外表面且上下对称的电极,进而控制上下对称的电极之间的液晶偏转,实现透光区和非透光区的互补切换,使得同一块掩模板既适用于正性光刻胶,又适用于负性光刻胶,克服了常规掩模板局限固定类型光刻胶的缺点,实现了一板多用,为掩模板的设计和光刻胶的选择扩充了空间,解决了因光刻胶的更换而导致的MASK制作成本和生产周期等问题。
搜索关键词: 一种 模板
【主权项】:
一种掩模板,其特征在于,所述掩模板包括相互对合的上、下基板、封装于所述上、下基板之间的液晶分子、位于上、下基板外表面且上下对称的电极。
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