[实用新型]电极载具及双面等离子体工艺装置有效
| 申请号: | 201120006636.9 | 申请日: | 2011-01-06 |
| 公开(公告)号: | CN201985070U | 公开(公告)日: | 2011-09-21 |
| 发明(设计)人: | 陈庆安;张宏隆;胡肇汇;庄炳煌;陈瑞志;卓瑞斌 | 申请(专利权)人: | 志圣工业股份有限公司 |
| 主分类号: | H01J37/20 | 分类号: | H01J37/20;H01J37/04;H01J37/32;H01L21/00 |
| 代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
| 地址: | 中国台湾台北县林*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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| 摘要: | 本实用新型是有关于一种电极载具,其包含一第一电极座、一支撑单元、一第二电极座与一治具,第一电极座形成有多数个第一通气孔,第二电极座借支撑单元间隔于第一电极座并且形成有多数个第二通气孔,治具用以将基材(例如晶圆、电路板或玻璃基板等)支撑间隔于第一电极座与第二电极座之间。本实用新型的一具体做法是借由将基材支撑间隔于第一电极座与第二电极座之间,使得工艺气体可分别在第一电极座与基材之间以及在第二电极座与基材之间形成等离子体,对基材两面进行工艺反应。 | ||
| 搜索关键词: | 电极 双面 等离子体 工艺 装置 | ||
【主权项】:
一种电极载具,用以承载一基材进行双面等离子体工艺反应,其特征在于该电极载具包含:一第一电极座,形成有多数个第一通气孔;一支撑单元,设置于该第一电极座;一第二电极座,设置于该支撑单元并且间隔于该第一电极座,且该第二电极座形成有多数个第二通气孔;以及一治具,设置于该第一电极座介于该第一电极座与该第二电极座之间,用以将该基材支撑于该第一电极座与该第二电极座之间并且分别与该第一、第二电极座相间隔。
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