[发明专利]一种像素结构及其制造方法、显示装置有效
| 申请号： | 201110080376.4 | 申请日： | 2011-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN102736325A | 公开（公告）日： | 2012-10-17 |
| 发明（设计）人： | 刘莎;赵合彬;李承珉;王丹 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1343 | 分类号： | G02F1/1343;G02F1/1362;G02F1/1335;H01L21/77 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 罗建民;陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种像素结构，包括阵列基板、彩膜基板以及位于所述阵列基板和彩膜基板之间的液晶层，在所述阵列基板和所述彩膜基板上所对应的漏光区域设置第一电极与第二电极，所述第一电极和第二电极之间形成垂直电场用于控制液晶层中液晶分子的偏转以阻止所述液晶层漏光。本发明还提供了一种像素结构的制造方法及一种显示装置。采用本发明的技术方案，第一电极和第二电极之间的电场使液晶层中的液晶分子在垂直于遮光膜的方向上排列，以阻止液晶层发生漏光现象，以有利于减少遮光膜的宽度，降低了液晶层的漏光现象对提高像素结构开口率的制约，提高像素结构的对比度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 像素 结构 及其 制造 方法 显示装置 | ||
【主权项】：
一种像素结构，包括阵列基板、彩膜基板以及位于所述阵列基板和彩膜基板之间的液晶层，其特征在于，在所述阵列基板和所述彩膜基板上所对应的漏光区域设置第一电极与第二电极，所述第一电极和第二电极之间形成垂直电场用于控制液晶层中液晶分子的偏转以阻止所述液晶层漏光。
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