[发明专利]用于表面处理的设备和方法无效
| 申请号： | 201080071083.3 | 申请日： | 2010-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN103459652A | 公开（公告）日： | 2013-12-18 |
| 发明（设计）人： | S.米克海洛夫 | 申请（专利权）人： | NCI瑞士纳米涂层公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;H01J37/32 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 姚李英;谭祐祥 |
| 地址： | 瑞士伊*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 一种用于涂布零件的设备，包括沉积室(1)和用于同时地或连续地向所述沉积室提供涂布材料的多个涂布设备(2,3)，其中至少一个所述涂布设备(2)为金属过滤电弧离子源，其中至少另一个所述涂布设备(3)为激光烧蚀源。至少两个所述涂布设备经由连接凸缘(10)可除去地连接到所述沉积室上。至少两个所述凸缘为相同的，以便一个所述涂布设备(2,3)可经由不同的凸缘连接到所述沉积室上。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 表面 处理 设备 方法 | ||
【主权项】：
一种用于涂布零件的设备，包括沉积室(1)和多个涂布设备(2,3)，所述涂布设备(2,3)用于同时地或连续地向所述沉积室(1)提供涂布材料，其中至少一个所述涂布设备(2)为金属过滤电弧离子源(2)，其中至少另一个所述涂布设备(3)为从激光烧蚀源(3)、磁控管、CVD设备或低能离子枪(5)中选择出的设备，其特征在于，至少两个所述涂布设备(2,3)经由连接凸缘(10)可除去地连接到所述沉积室(1)上，其中至少两个所述凸缘(10)为相同的，以便所述涂布设备(2,3)中的一者可经由不同的凸缘(10)连接到所述沉积室(10)上。
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