[发明专利]一种化学机械抛光液无效
| 申请号： | 201010554732.7 | 申请日： | 2010-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN102464947A | 公开（公告）日： | 2012-05-23 |
| 发明（设计）人： | 姚颖;宋伟红;孙展龙 | 申请（专利权）人： | 安集微电子(上海)有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化学机械抛光液，该抛光液包含研磨颗粒、金属缓蚀剂、有机酸，氧化剂和水，其还包含一种或多种季铵盐型阳离子表面活性剂。本发明的抛光液对低介电材料的抛光速率具有促进作用，但对钽、铜的抛光速率无明显影响，因此可以大大提高衬底材料的抛光选择性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光液，包含：研磨颗粒、金属缓蚀剂、有机酸、氧化剂、水及一种或多种季铵盐型阳离子表面活性剂。
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