[发明专利]激光光学单元、激光光学设备和成像设备无效

专利信息
申请号: 200510138130.2 申请日: 2005-12-22
公开(公告)号: CN1854800A 公开(公告)日: 2006-11-01
发明(设计)人: 关根春行 申请(专利权)人: 柯尼卡美能达商用科技株式会社
主分类号: G02B26/10 分类号: G02B26/10;G03G15/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 康建忠
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 具有沿主扫描方向扫描光束的扫描器的激光光学设备中的激光光学单元,它包括:包括两个发光元件的激光光源,一个发光元件发光的时间与另一发光元件发光的时间重叠;为从所述光源发出的两个光束设置的准直透镜;和为所述两个光束设置的狭缝,用于限制所述两个光束从准直透镜到扫描器的传播,其中0.9≤cosθ≤(w·d)/(0.872·f·λ),这里θ(°)是所述两个发光元件的排列方向与副扫描方向相遇的角度,d(微米)是所述两个发光元件之间的距离,λ(纳米)是激光的波长,f(毫米)是准直透镜的焦距,w(毫米)是狭缝的宽度。
搜索关键词: 激光 光学 单元 设备 成像
【主权项】:
1、一种激光光学单元,所述激光光学单元将被装入具有沿主扫描方向扫描光束的扫描器的激光光学设备中,所述激光光学单元包含:包括两个发光元件的激光光源,一个发光元件发光的时间与另一发光元件发光的时间重叠;为从激光光源发出的两个光束设置的准直透镜;和为所述两个光束设置的狭缝,用于限制从准直透镜输出,并且输入到扫描器中的两个光束的传播,其中0.9≤cosθ≤(w·d)/(0.872·f·λ)这里θ(°)是所述两个发光元件的排列方向与副扫描方向相遇的角度,d(微米)是所述两个发光元件之间的距离,λ(纳米)是激光的波长,f(毫米)是准直透镜的焦距,w(毫米)是狭缝的宽度。
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