[发明专利]无掩模微成影中用时间和/或功率调制获得剂量灰度化无效
| 申请号： | 200410058823.6 | 申请日： | 2004-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN1580958A | 公开（公告）日： | 2005-02-16 |
| 发明（设计）人： | 温赛斯劳·A.·赛布哈;贾森·D.·星特斯坦纳;艾扎特·拉迪普夫;杰拉尔德·沃尔皮 | 申请（专利权）人： | ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 付建军 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 在微成影应用中，例如需要控制印刷线的位置或宽度。控制这些图案及其分辨率的有效方法具有尽可能多的灰度等级。本发明包括灰度化的方法，其中，曝光时间的调制会增加对象上灰度等级的数目。此外，本发明包括调制曝光光束的功率以提供额外的灰度等级的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 无掩模微成影 中用 时间 功率 调制 获得 剂量 灰度 | ||
【主权项】：
1.一种在具有空间光调制器的无掩模微成影系统中用于在对象上产生灰度的方法，所述方法包括：以光束曝照所述对象以产生图案；及调制所述对象的曝光时间以在所述对象上产生一个范围的灰度等级。
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