[发明专利]涂覆及显影的方法及其系统有效
| 申请号： | 01116946.X | 申请日： | 2001-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN1322969A | 公开（公告）日： | 2001-11-21 |
| 发明（设计）人： | 北野淳一;松山雄二;北野高广;八重∴英民 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 黄力行 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种对基片进行涂覆和显影处理的方法,这种方法包括如下步骤在基片上涂覆感光胶并在其上形成涂覆膜;对形成涂覆膜的基片进行加热处理;在加热处理之后冷却基片;对基片上的涂覆层进行曝光处理;在曝光处理之后对基片进行显影处理。还包括如下步骤在所述形成涂覆层步骤之后所述基片曝光处理步骤之前,对基片施放工艺气体,在涂覆层表面形成工艺膜。因此,工艺膜使得基片免于受大气中氧,水蒸汽之类杂质的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 显影 方法 及其 系统 | ||
【主权项】：
1．对基片进行涂覆和显影处理的一种方法，包括如下步骤：在基片上涂覆感光胶并在其上形成涂覆层；对形成涂覆层的基片进行加热处理；在加热处理之后冷却基片；对基片上的涂覆层进行曝光处理；在曝光处理之后对基片进行显影处理；所述方法还包括如下步骤：在所述形成涂覆层步骤之后所述基片曝光处理步骤之前，对基片释放工艺气体，在涂覆层表面形成工艺膜。
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