[发明专利]取代的1,2,3,4－四氢化萘衍生物

权利要求书

1.作为(R)-对映体、(S)-对映体或外消旋物的游离碱形式的式I化合物，或其可药用盐或溶剂化物其中

X是N或CH；

Y是NR₂CH₂、CH₂-NR₂、NR₂-CO、CO-NR₂或NR₂SO₂，其中R₂是H或C₁-C₆烷基；

R₁是H、C₁-C₆烷基或C₃-C₆环烷基；

R₃是C₁-C₆烷基、C₃-C₆环烷基或(CH₂)_n-芳基，其中芳基是苯基或含选自N、O和S的一或二个杂原子的杂芳环，并可被R₄和/或R₅单或双取代；

其中R₄是H、C₁-C₆烷基、C₃-C₆环烷基、卤素、CN、CF₃、OH、C₁-C₆烷氧基、NR₆R₇、OCF₃、SO₃CH₃、SO₃CF₃、SO₂NR₆R₇、苯基、苯基-C₁-C₆烷基、苯氧基、C₁-C₆烷基苯基；含有选自N、O、S、SO和SO₂的一或二个杂原子的任选取代的杂环，其中取代基是选自C₁-C₆烷基、C₃-C₆环烷基和苯基-C₁-C₆烷基；含有选自N、O和S的一或二个杂原子的任选取代的杂芳环，其中取代基选自C₁-C₆烷基、C₃-C₆环烷基和苯基-C₁-C₆烷基；或COR₈；

其中R₆是H、C₁-C₆烷基或C₃-C₆环烷基；

R₇是氢、C₁-C₆烷基或C₃-C₆环烷基；和

R₈是C₁-C₆烷基、C₃-C₆环烷基、CF₃、NR₆R₇、苯基，含有选自N、O和S的一或二个杂原子的杂芳环，或含有选自N、O、S、SO和SO₂的一或二个杂原子的杂环；

其中R₅是H、OH、CF₃、OCF₃、卤素、C₁-C₆烷基或C₁-C₆烷氧基；

n是0-4；

R₉是C₁-C₆烷基、C₃-C₆环烷基、OCF₃、OCHF₂、OCH₂F、卤素、CN、CF₃、OH、C₁-C₆烷氧基，C₁-C₆烷氧基-C₁-C₆烷基、NR₆R₇、SO₃CH₃、SO₃CF₃、SO₂NR₆R₇；含有选自N、O和S的一或二个杂原子的未取代或取代的杂环或杂芳环，其中取代基是C₁-C₆烷基；或COR₈；其中R₆、R₇和R₈的定义同上。