[发明专利]具有以提高干粉末释出的改进表面的吸入器装置无效
| 申请号: | 97195380.5 | 申请日: | 1997-06-10 |
| 公开(公告)号: | CN1224365A | 公开(公告)日: | 1999-07-28 |
| 发明(设计)人: | P·达塔;H·C·里文布尔格;N·德塞 | 申请(专利权)人: | 德尔西斯药品公司 |
| 主分类号: | A61M15/00 | 分类号: | A61M15/00;A61M16/00 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 卢新华,杨九昌 |
| 地址: | 美国新*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 具有 提高 粉末 释出 改进 表面 吸入 装置 | ||
相关的共同未决的美国专利申请包含:08/630049号申请(“声型散布器”,1996.4.9申请以及与本申请同时申请的它的部分延续申请)、08/630050号申请(“静电吸盘”1996,4.9申请以及与本申请同时申请的它的部分延续申请)、08/630012(“用于将多种物质定位在基片上的吸盘和方法”,1996.4.9申请)、08/471889(“用于在基片上的预定区域静电沉积药物粉末的方法和装置”1995.6.6申请和它的部分延续申请(1996.6.6)、08/467647(“用于在基片上静电沉积和保持材料的装置”,1995.6.6申请)以及08/506703(“利用摩擦带电技术的吸入器装置”1995,7.25申请),它们尤其介绍了物质例如粉末颗粒在一基片例如吸入器基片上的静电沉积。因此上述专利申请这里引用全文可供参考。
按照本发明的一个方面,提供一种吸入器装置,其包含与吸服的药物相接触的内部表面,该内部表面包含管嘴的内表面和其上沉积有药物的基片。根据本发明,至少其中一种内表面其中具有一些凹道或隆起区域,在隆起区域之间具有谷区。这些表面的改进形成的结构使药物与吸入器内的表面之间的触面积尽量小,因此,有利于药物从吸入器的释出。
在干性粉末吸入器的设计和制造方面己有很多方案。例如WO93/09832公开了一种具有药物粉末的细长载体的吸入器装置,在受到锤击后药物粉末释出,该吸入器装置具有一解聚药物粉末的盘旋通道。
现有技术的吸入器的缺点例如包含:患呼吸病如哮喘的病人难以有充分的力吸入全部药物剂量。例如病人仅可能达到每分约15升的气流量。在大多数干性粉末吸入器中,病人的吸服要提供足以从吸入器中得到所需药物的能量。由病人肺部提供的气流量明显影响从吸入器出来并到达肺部的药物量。
现有技术的吸入器的另一些缺点包含:例如取决于病人的气流量从吸入器中可能服用过多或过小的药物量,这就不能精确地确定服用的药物量。
现有技术的吸入器的另一个缺点是药物粉末聚结的问题。聚结的颗粒通常落入嘴和喉部,而不是保持在气流中以便沉积在肺部。补救这一问题的方法之一是在现有技术的吸入器中设置曲折通道,以便有助于解聚。然而这种方法存在缺点,例如药物沿该通道沉积,因此导致不能精确地按剂量服药。
在现有技术的吸入器中遇到的另一个缺点是例如在吸入器跌落时,会使药物散开而造成意外排出。
由于上述原因,需要这样一种干性粉末吸入器,其能够在低气流量例如每分15升的情况下精确输送药物剂量,在受到冲击例如吸入器跌落时能基本上维持住药物。
发明概述
本发明部分地涉及一种吸入器装置,其包含与吸服的药物相接触的内部表面,该内部表面包含管嘴的内部表面和其上沉积有药物的基片表面,这些内部表面的至少其中之一包含一些凹道或隆起的区域,在隆起区域之间有谷区。在某些优选实施方案中,该内部表面是其上沉积有药物的基片的表面,在另一些优选实施方案中,该内部表面是吸入器中的管嘴的内表面。最好该凹道或隆起的区域的尺寸和间隔是经选择的,以便降低与基片的平整表面可能接触的药物颗粒的数量。最好,基片和管嘴的表面以及与药物接触的其它表面均具有一些凹道或隆起的区域或者其它表面结构,以用于降低在所选择药物和该表面之间的接触面积。
图的简述
图1是表示3种将颗粒附着到吸入器中的基片上的作用力的曲线图,即静电力(“Fe”)电荷成像分布产生的力(“Fim”)以及范德瓦尔力(“Fv”)。
图2A-E是从具有槽形凹道结构的聚丙烯基片释出粉末的显微照像图。在图2A-E中所示的是按42倍放大的。图2A表示释出前的粉末;图2B表示在受到每分15升的气流量作用之后所余的粉末;图2C表示在受到每分30升的气流量作用之后所余的粉末;图2D表示在受到每分4.5升的气流量作用之后所余的粉末;图2E表示在受到每分57升的气流量作用之后所余的粉末。
图2F是表示在提高流量的情况下从图2A-E中所示的基片上释出粉末得到的数据的曲线图。
图3A-C是一吸入器基片的显微摄影图。图3A是具有槽形凹道的聚丙烯基片的显微摄影图。图3B是其上沉积粉末的同一基片的显微摄影图。图3C是在释出粉末之后的同一基片的显微摄影图。
图4A-C在基片表面具有槽形凹道的由硅制成的吸入器基片的显微摄影图。图4A是基片的显微摄影图;图4B是基上沉积有粉末的同一基片的显微摄影图;图4C是在释出粉末之后的同一基片的显微摄影图。
图5A-C是表示更高放大倍数的图4A-C所示的显微摄影图。
图6A-C是表示更高放大倍数的图5A-C所示的显微摄影图。
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