[发明专利]含有(氟代苯氧基)(3-全氟烷苯氧基)-环状磷腈润滑剂的记录体无效
| 申请号: | 91111732.6 | 申请日: | 1991-12-20 |
| 公开(公告)号: | CN1046042C | 公开(公告)日: | 1999-10-27 |
| 发明(设计)人: | K·K·卡尔;C·E·帕罗斯基;T·A·摩根 | 申请(专利权)人: | 陶氏化学公司 |
| 主分类号: | G11B5/71 | 分类号: | G11B5/71 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 任宗华 |
| 地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 含有 氟代苯氧基 全氟烷苯氧基 环状 润滑剂 记录 | ||
本发明广泛涉及磁记录体及其特性润滑剂。
磁记录体,诸如高密度硬盘,超高密度软盘,数字式录音磁带和录象磁带等,当通过磁性记录头时就能被读出。磁性记录头非常接近于记录体并时常与记录体接触。这种接触使记录体上的磁性物质薄层发生磨损而缩短记录体的使用寿命。老式工艺的记录体诸如标准录音磁带,VHS录象磁带和标准软盘,由于不适当的润滑剂而碰到磨损问题。这类问题包括摩擦增加,擦伤和粘附。本发明的新型高效的内润滑和界面润滑方式致力于解决这类问题。本发明的润滑剂是为使用上述更先进的磁记录体设计的。
磁性体用的磷腈润滑剂的另一个重要特性是润滑剂的溶剂混溶性。该润滑剂必须能溶于诸如四氢呋喃和丙酮之类的溶剂中。该润滑剂在有水和碱的情况下也必须稳定。
磁性体用的润滑剂是技术上已知的。但这种润滑剂只局限用于较成熟的,诸如标准录音带,VHS录象带和标准软盘之类磁性体的配合成分。而且,这类润滑剂表明,没有与广泛范围溶剂的混溶性且在水与碱中不稳定。这类润滑剂的实例在Lum的U.S.4,613,548(1986.9.23出版)中有描述,该文献公开报导一种含有在正常状态下为液相的磷腈润滑剂的磁记录体,该磷腈化合物诸如低分子量的直链或环状的多氧烷氧基磷腈混合物。在Lum文献中列举的这种氟烷氧基取代的磷腈化合物在碱和水中不表现如本发明中所述的稳定性。
U.S.3,291,865(Kuber等人)公开报导一种环状聚合磷腈化合物的组合物,该化合物的第一取代基是一种多氟烷氧基化合物,第二取代基可包括一种卤代的低级烷基取代的苯氧基或一种卤素取代的苯氧基。
本发明的磁记录体利用一种苯氧基取代的环状磷腈润滑剂作为现代高密度记录体用的内润滑剂和界面润滑剂。
含有苯氧基取代的磷腈化合物的磁记录体包括:一种基材;基材上的一种磁记录体,该磁性体包含记录信息用的磁粉;悬浮磁粉用的粘合剂和一种具有下式的环状磷腈化合物:式中n为3-7,R为在每一情况下分别为一个或多个下列两种取代基(1)选自一氟苯氧基,二氟苯氧基,三氟苯氧基,四氟苯氧基和五氟苯氧基的氟代苯氧基取代基;和(2)一个或多个间位一全氟烷基苯氧基取代基。这种磷腈化合物中氟代苯氧基与间位一全氟烷基苯氧基之比从约1∶1至约1∶5。
本发明的环状磷腈化合物最好是三聚物,虽然诸如四聚物之类的较高的低聚物也能用。但使用三聚的低聚物时,也可含少量的较高的低聚物。
该润滑剂以一种内界面方式使用,办法是制备一种供涂布到记录基材上的含润滑剂的膜料。膜的制法是使溶剂,含颜料的磁粉和聚氨酯-乙烯基粘合剂形成一分散液。然后把膜料涂布到聚酯片基上。
环状磷腈润滑剂也可用作表面润滑剂,把润滑剂涂布到记录膜的表面,并让润滑剂浸透记录体。
本发明含用氟代苯氧基取代的环状磷腈润滑剂的记录体的优点是由于更加有效的润滑作用而使记录体的物性和磁性能的耐久性得到改进。另一个优点是制造过程中的加工性能。因为分子中的苯氧基取代部分使环状磷腈润滑剂具有在诸如甲苯和丙酮之类有机溶剂中的混溶性。这就使得能更实用,更经济地制造产品。而且,环状磷腈上的氟代苯氧基取代基,不同于先有常例的氟烷氧基取代的环状磷腈,使润滑剂能够在碱和水中稳定。
从下面的详细说明连同附图一起,就会清楚地理解本发明的本质和范围。附图中:
图1表明一种磁滞回线,该回线确定了记录体的磁性能。
在磁记录体中有效的环磷腈化合物,其氟代苯氧基部分含有1到5个氟原子。氟代苯氧基部分最好含1个氟原子而且氟原子对苯氧基部分的氧原子处于邻,间或对位。间位一全氟烷苯氧基上的全氟烷基较好是含1到约5个碳原子的低级全氟烷基,最好是三氟甲基。
氟代苯氧基与全氟烷基苯氧基取代基之比从约1∶5到约1∶1为宜,较好是约1∶2到约1∶1,更好是约1∶2。虽然本发明的各化合物被描述成具有特定取代基,以规定的比例存在的单种分子,本行业的人会意识到各化合物是以分子的统计混合物状态存在的。其中某些分子具有特定的取代基比例而另一些分子的这一比例或高或低。但是,在这类统计混合物中,磷腈化合物会具有以特定比例存在的取代基。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于陶氏化学公司,未经陶氏化学公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/91111732.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:狭带端部的整形切断装置
- 下一篇:甲维嘌





