[发明专利]套刻标记结构及套刻偏移检测方法

权利要求书

1.套刻标记结构，其特征在于，包括：

呈三角形结构的第一套刻标记图形和第二套刻标记图形；

所述第一套刻标记图形和所述第二套刻标记图形形成在晶圆衬底的不同层，且，所述第一套刻标记图形的投影面积位于所述第二套刻标记图形投影的投影面积的范围内；

通过量侧所述第一套刻标记图形和所述第二套刻标记图形的中心在X、Y、Z三个方向的偏移量得出套刻补偿数据，并根据该补偿数据对曝光机台进行补偿。

2.如权利要求1所述的套刻标记结构，其特征在于，所述第一套刻标记图形和所述第二套刻标记图形均呈正三角形结构。

3.如权利要求2所述的套刻标记结构，其特征在于，所述第一套刻标记图像和所述第二套刻标记图形的位置被配置为：套刻对准时，第一套刻标记图形的中心和所述第二套刻标记图形的中心对齐，且两个套刻标记图形呈平行设置。

4.如权利要求1所述的套刻标记结构，其特征在于，第一套刻标记图形相对第二套刻标记图形呈比例缩小，且，第一套刻标记图形的外边沿分别与第二套刻标记图形的外边沿平行。

5.如权利要求1所述的套刻标记结构，其特征在于，进一步包括：

图像采集机构：用于采集第一套刻标记图形的图像，以及，第二套刻标记图形的图像；

处理器：获取第一套刻标记图形的图像并定位第一套刻标记图形图像的中心，获取第二套刻标记图形的图像并定位第二套刻标记图形图像的中心，分析第一套刻标记图形中心和第二套刻标记图形中心在X、Y、Z三个方向的偏移量得出套刻补偿数据，并根据该补偿数据生成对曝光机台的补偿数据。

6.如权利要求1至5中任意一项所述的套刻标记结构，其特征在于，所述第一套刻标记图形和所述第二套刻标记图形呈：Box in Box、Bar in Bar、Bar in Box结构设置。

7.一种套刻偏移检测方法，其特征在于，采用权利要求1至6中任意一项所述的套刻标记结构进行套刻偏移的检测，包括以下步骤：

检测第一套刻标记图形的中心；

检测第二套刻标记图形的中心；

量侧所述第一套刻标记和所述第二套刻标记图形的中心在X、Y、Z三个方向的偏移量得出套刻补偿数据，并根据该补偿数据对曝光机台进行补偿。