[发明专利]用于测量弯曲玻璃板的几何形状的方法和设备在审
| 申请号: | 202280004309.0 | 申请日: | 2022-09-07 |
| 公开(公告)号: | CN116209874A | 公开(公告)日: | 2023-06-02 |
| 发明(设计)人: | T·尼尔森 | 申请(专利权)人: | 法国圣戈班玻璃厂 |
| 主分类号: | G01B11/25 | 分类号: | G01B11/25 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 臧永杰;刘春元 |
| 地址: | 法国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 测量 弯曲 玻璃板 几何 形状 方法 设备 | ||
1.一种用于在至少200°C的温度下测量弯曲玻璃板(1)的几何形状的方法,所述玻璃板具有第一侧(I)和第二侧(II),其中
a)将具有第一波长(λM)的测量激光器(L)的辐射对准所述第一侧(I)上的测量点(P),并且利用第一探测器(6)探测辐射回的辐射(B),并且确定测量点(P)和激光器(L)之间的所测量的间距h,
b)将具有不同于所述第一波长(λM)的第二波长(λR)的参考激光器(LR)的辐射对准漫反射参考样品(5)上的具有距所述参考激光器(LR)的已知额定间距f的参考点(R),并且利用第二探测器(7)探测辐射回的参考辐射(BR),并且确定参考点(R)和参考激光器(LR)之间的参考间距r,
c)确定所述参考间距r和所述额定间距f之间的差,并且从所测量的间距h中减去所述差,使得获得经校正的间距d,
d)对于至少两个测量点和同样多的参考点执行步骤a)至c),并且从至少两个经校正的间距中确定所述至少两个测量点的空间位置。
2.根据权利要求1所述的方法,其中所述玻璃板(1)上的测量点(P)和所述漫反射参考样品(5)上的参考点(R)之间的距离a为1 mm和30 mm之间、优选地为5 mm和20 mm之间。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其中步骤a)和b)之间的时间间隔小于0.1秒、优选地小于0.01秒。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法,其中在步骤a)中,所述测量激光器(L)的辐射由所述玻璃板的第一侧(I)反射并且作为辐射回的辐射(B)利用所述第一探测器(6)探测所反射的辐射。
5.根据权利要求4所述的方法,其中为了借助于所述第一探测器(6)探测所反射的辐射,使用能够使所述测量激光器(L)的波长通过的光学滤波器(8)、尤其是带通滤波器。
6.根据权利要求1至3中任一项所述的方法,其中
-所述玻璃板(1)是浮法玻璃板(1),并且所述第一侧(I)是所述浮法玻璃板的锡槽侧,并且所述第二侧(II)是所述浮法玻璃板(1)的大气侧,
-在步骤a)中,将所述测量激光器(L)的辐射对准所述锡槽侧(I)上的测量点(P),其中激发锡残留物以发荧光,并且作为辐射回的辐射(B)利用第一探测器(6)探测所发射的荧光辐射,和
-所述测量激光器(L)的辐射具有至多360 nm、优选地240 nm至355 nm、完全特别优选地240 nm至300 nm的UV光谱范围内的波长。
7.根据权利要求6所述的方法,其中为了借助于所述第一探测器(6)探测所述荧光辐射(B)使用具有至多600 nm、优选地500 nm至600 nm的滤波边沿的光学滤波器(8)、尤其是高通滤波器(8)或带通滤波器,在所述过滤边沿以上辐射被阻挡。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的方法,其中所述第一探测器(6)和/或所述第二探测器(7)是光电二极管、光电倍增器或空间分辨光电探测器、例如CCD或CMOS传感器或光电二极管阵列。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的方法,其中所述第一探测器(6)和所述第二探测器(7)是相同的。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的方法,其中所述测量激光器(L)的辐射和所述参考激光器(LR)的辐射分别以至少两个激光光斑(2)的形式或者至少一个相对于所述玻璃板(1)移动的激光光斑(2)的形式被聚焦,以便照射所述至少两个测量点(P)和所述至少两个参考点(R)。
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