[实用新型]一种聚焦离子束样品清洁装置

说明书

本实用新型公开了一种聚焦离子束样品清洁装置，包括操作台，操作台的顶部焊接有立板，立板的一侧焊接有横板，横板的底部开设有第一滑槽，第一滑槽的内部贯穿有第一螺杆，第一螺杆的一端与电机的输出端焊接，第一螺杆螺纹连接有第一滑块，第一滑块的底部焊接有连接柱，连接柱的底部与等离子枪连接，等离子枪的下方设置有样品台，样品台的两侧安装有夹紧机构，本实用新型通过安装的夹紧机构，可以对样品进行夹紧固定，通过电机可以带动第一螺杆转动，第一螺杆可以带动第一滑块、连接柱和等离子枪移动到指定位置，通过等离子枪可以对样品进行离子轰击刻蚀去除污染物，进而可以大大提高清洁效率，快速完成清洁任务。

技术领域

本实用新型涉及清洁设备技术领域，具体为一种聚焦离子束样品清洁装置。

背景技术

聚焦离子束(FIB)是一种微纳米加工技术，其基本原理与扫描电子显微镜(SEM)类似，采用离子源发射的离子束经过加速聚焦后作为入射束，高能量的离子与固体表面原子碰撞的过程中可以将固体原子溅射剥离，因此，FIB更多的是被用作直接加工微纳米结构的工具。结合气体注入系统(GIS)，FIB可以辅助进行化学气相沉积，定位诱导沉积生长微纳米材料和结构，或者辅助进行选择性增强刻蚀特定材料和结构。

聚焦离子束加工结合气体注入系统可以实现辅助化学气相沉积，定位生长特定的纳米结构，这种方法被称为聚焦离子束诱导沉积。但是，反应气体残留污染是一个不容忽视的问题，同时，反应气体也可能残留在样品表面造成污染。

所以需要针对上述问题进行改进。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种聚焦离子束样品清洁装置，以解决上述背景技术提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种聚焦离子束样品清洁装置，包括操作台，所述操作台的顶部焊接有立板，所述立板的一侧焊接有横板，所述横板的底部开设有第一滑槽，所述第一滑槽的内部贯穿有第一螺杆，所述第一螺杆的一端通过第一轴承与所述第一滑槽的侧壁连接，所述第一螺杆的另一端贯穿通过所述第一滑槽的侧壁，且延伸至所述立板的外部与电机的输出端焊接，所述电机安装在所述立板的一侧，所述第一螺杆螺纹连接有第一滑块，所述第一滑块的底部焊接有连接柱，所述连接柱的底部与等离子枪连接，所述等离子枪的下方设置有样品台，所述样品台的两侧安装有夹紧机构。

优选的，所述夹紧机构包括第二滑槽、第二螺杆、第二轴承、摇把、第二滑块、支架和夹块，所述操作台的顶部开设有所述第二滑槽，所述第二滑槽的内部贯穿有所述第二螺杆，所述第二螺杆的一端通过所述第二轴承与所述第二滑槽的侧壁连接，所述第二螺杆的另一端贯穿通过所述第二滑槽的侧壁，且与所述摇把的一端焊接，所述摇把安装在所述操作台的一侧，所述第二螺杆螺纹连接有两组所述第二滑块，两组所述第二滑块的顶部均焊接有两组所述支架，多组所述支架的另一端均与所述夹块的一侧焊接。

优选的，所述第二滑槽的两侧设置有多组支撑柱，多组支撑柱的底部均与所述操作台的顶部焊接，多组所述支撑柱的另一端均与托盘的底部焊接，所述托盘的内部安装有第二电机，所述第二电机的输出端贯穿通过所述托盘的顶部，且与样品台的底部焊接。

优选的，两组所述第二滑块的螺纹相反。

优选的，两组所述夹块的一侧均粘接有橡胶垫。

优选的，所述操作台的底部安装有底座，所述底座设置有四组。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1.本实用新型通过启动电机可以带动第一螺杆转动，第一螺杆可以带动螺纹连接的第一滑块水平移动，从而第一滑块可以带动连接柱和等离子枪移动到指定位置，通过等离子枪可以对样品进行离子轰击刻蚀去除污染物，由于等离子体具有清洁速度快、便于自动化等优点，进而可以大大提高清洁效率，快速完成清洁任务。