[实用新型]一种高分子材料热熔去杂装置

权利要求书

1.一种高分子材料热熔去杂装置,包括桶体(1)，其特征在于，还包括：

筛滤机构(2)，所述筛滤机构(2)安装在所述桶体(1)内，所述桶体(1)内壁上圆周间隔固定安装有多个加热棒(11)，所述桶体(1)上方安装有排杂机构(3)，所述桶体(1)下端安装有排料机构(4)，所述筛滤机构(2)包括丝杠(21)、升降盘(22)、筛网(23)、顶盖(24)、电机(25)，所述顶盖(24)固定安装在所述排杂机构(3)上方，所述电机(25)固定安装在所述顶盖(24)上表面中心且电机(25)的输出轴贯穿所述顶盖(24)，所述丝杠(21)一端固定安装在所述电机(25)输出轴下方，所述丝杠(21)另一端转动安装在所述排料机构(4)上，所述升降盘(22)螺纹套设安装在所述丝杠(21)上，所述筛网(23)设置在所述升降盘(22)上，所述升降盘(22)边缘对应所述加热棒(11)开设有缺口，所述加热棒(11)在所述缺口内滑动。

2.根据权利要求1所述的一种高分子材料热熔去杂装置，其特征在于，所述排料机构(4)包括底座(41)、转动环(42)、边框(44)，所述底座(41)固定安装在所述桶体(1)下端，所述底座(41)外侧开设有环形槽，所述转动环(42)转动安装在所述环形槽内，所述底座(41)与所述转动环(42)上对应开设有出料口(43)，所述边框(44)固定安装在所述转动环(42)上的所述出料口(43)外侧。

3.根据权利要求2所述的一种高分子材料热熔去杂装置，其特征在于，所述转动环(42)外侧固定安装有辅助把手(45)。

4.根据权利要求1所述的一种高分子材料热熔去杂装置，其特征在于，所述排杂机构(3)包括底环(31)、外环(32)、转动件(33)、辅助杆(34)，所述底环(31)固定安装在所述桶体(1)外壁上，所述底环(31)低于所述桶体(1)顶端，所述外环(32)固定安装在所述底环(31)上方，所述外环(32)一侧开设有除杂口(321)，所述转动件(33)固定安装在所述丝杠(21)上，所述转动件(33)底端与所述桶体(1)顶端平齐且贴合，所述辅助杆(34)固定安装在所述转动件(33)下端且位于所述桶体(1)与所述外环(32)之间。

5.根据权利要求1所述的一种高分子材料热熔去杂装置，其特征在于，还包括注料机构(5)，所述注料机构(5)包括封闭盖(52)，所述顶盖(24)上开设有注料口(51)，所述封闭盖(52)螺纹连接在所述注料口(51)内。