[发明专利]烤箱的温度控制方法、烤箱、设备、介质

说明书

本公开为一种烤箱的温度控制方法、烤箱、设备、介质。所述温度控制方法包括：获取所述烤箱内的烤盘的底部温度；获取所述烤盘的状态数据，所述烤盘的状况数据包括所述烤盘的数量和/或所述烤盘的所在层数；根据所述烤盘的底部温度和所述烤盘的状态数据，调节所述烤箱的内部温度。本公开的烤箱的温度控制方法通过温度传感器获取所述烤盘的底部温度，再根据烤盘的底部温度，调节加热管的底火强度以及控制背风扇的运行。可以根据具体情况，将烤箱的温度控制在合理范围之内，以使烘焙效果达到良好预期。

技术领域

本公开涉及家电领域，尤其涉及一种烤箱的温度控制方法、烤箱、设备、介质。

背景技术

烤箱的烘焙效果取决于对温度的控制。现有烤箱的常规加热结构包括：顶部加热管、背部加热管及底部加热管，利用三个加热管加热烤箱腔体内物体来实现烘焙功能。并且，在烘焙手法上通常采用上下火模式，例如，在烘焙蛋糕时通常由顶部加热管控制上火强度，上火强度将决定上色程度。底部加热管控制底火强度，并将热量传递给烤盘，烤盘将直接加热物体的底部。因此，在上色程度相同的情况下，底部加热管所控制的底火强度，会影响着蛋糕是否容易脱模。如果底火强度过弱，会导致蛋糕顶部上色程度已经达到预期时，底部却依然有多余水分，从而使整个蛋糕很难从模具中脱出。并且，底火强度对烤盘的加热程度与烤盘在烤箱中摆放的位置以及烤盘数量也有密切关系。

所以，对于一些普通用户在没有丰富烹饪经验的情况下，烘焙时很难掌握适合的火候。即不能将底火强度、烤盘摆放的层数、烤盘数量以及加热时间这些烘焙要素控制在最佳范围内，导致烘焙温度达不到理想范围，从而容易导致用户烘焙的效果不佳，难以达到用户的良好预期。

发明内容

本公开要解决的问题是为了克服现有技术中因控制不好烘焙温度导致烘焙效果不佳的缺陷，提供一种烤箱的温度控制方法、烤箱、设备、介质。

本公开是通过下述技术方案来解决上述技术问题：

本公开提供了一种烤箱的温度控制方法，所述温度控制方法包括：

获取所述烤箱内的烤盘的底部温度；

获取所述烤盘的状态数据，所述烤盘的状况数据包括所述烤盘的数量和/或所述烤盘的所在层数；

根据所述烤盘的底部温度和所述烤盘的状态数据，调节所述烤箱的内部温度。

较佳地，所述根据所述烤盘的底部温度和所述烤盘的状态数据，调节所述烤箱的内部温度，包括：

若所述烤盘的数量少于2个，确定所述烤盘的底盘平均温度，所述底盘平均温度为所述烤盘的底部温度的平均值；

获取烹饪时间，所述烹饪时间为所述烤箱的运行总时间；

根据所述底盘平均温度和/或所述烹饪时间，调节加热管的底火强度；

所述底火强度与所述底盘平均温度呈负相关。

较佳地，所述根据所述烤盘的底部温度和所述烤盘的状态数据，调节所述烤箱的内部温度，包括：

若所述烤盘的数量为至少2个，确定最底层的所述烤盘的底盘平均温度，所述底盘平均温度为所述烤盘的底部温度的平均值；

根据最底层的所述烤盘的所述底盘平均温度，调节加热管的底火强度；

所述底火强度与所述底盘平均温度呈负相关。

较佳地，所述根据所述烤盘的底部温度和所述烤盘的状态数据，调节所述烤箱的内部温度，还包括：

获取每一个所述烤盘的底盘平均温度；

获取每两个相邻的所述烤盘的所述底盘平均温度的温度差值；

若所述温度差值超过第一温度阈值，则运行所述烤箱的背风扇。