[发明专利]电极丝连接部件、CVD装置以及存储介质基板的制造方法在审
| 申请号: | 202211309147.X | 申请日: | 2022-10-25 |
| 公开(公告)号: | CN116043189A | 公开(公告)日: | 2023-05-02 |
| 发明(设计)人: | 田沼广光;中山真一;诺拉扎利·罗曼·穆默德阿里;林国陞 | 申请(专利权)人: | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
| 代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 于英慧 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 电极 连接 部件 cvd 装置 以及 存储 介质 制造 方法 | ||
1.一种电极丝连接部件,其在电极丝配置于由外壁形成的腔室内的CVD装置中,以贯通上述外壁的方式进行安装,从而在来自上述腔室外的电源的配线和上述电极丝之间进行电连接,
该电极丝连接部件包括:
头部,其设于上述腔室内,用于安装上述电极丝;以及
杆部,其自上述头部贯通上述外壁,用于连接来自上述电源的上述配线,
上述头部具有:
电极丝安装部,其设于位于上述腔室的内侧的顶端部;以及
侧面,其以与上述杆部贯通上述外壁的轴向平行的方式或自上述顶端部朝向上述外壁侧逐渐扩展的方式形成,
在自上述轴向投影观察时,上述头部的上述侧面的外形与上述电极丝连接部件的外形一致。
2.根据权利要求1所述的电极丝连接部件,其中,
上述侧面由连续面构成。
3.根据权利要求1或2所述的电极丝连接部件,其中,
上述侧面以自上述顶端部朝向上述外壁侧逐渐扩展的方式形成。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的电极丝连接部件,其中,
在使电极丝连接部件贯通设于上述外壁的安装孔而进行安装的状态下,在自上述轴向投影观察上述安装孔时,上述头部的外形位于上述安装孔的外侧。
5.一种CVD装置,其在由外壁形成的腔室内配置有电极丝,
该CVD装置包括电极丝连接部件,该电极丝连接部件以贯通上述外壁的方式进行安装,并且在来自上述腔室外的电源的配线和上述电极丝之间进行电连接,
上述电极丝连接部件包括:
头部,其设于上述腔室内,用于安装上述电极丝;以及
杆部,其自上述头部贯通上述外壁,用于连接来自上述电源的上述配线,
上述头部具有:
电极丝安装部,其设于位于上述腔室的内侧的顶端部;以及
侧面,其以与上述杆部贯通上述外壁的轴向平行的方式或自上述顶端部朝向上述外壁侧逐渐扩展的方式形成,
在自上述轴向投影观察时,上述头部的上述侧面的外形与上述电极丝连接部件的外形一致。
6.一种存储介质基板的制造方法,其通过在由外壁形成的腔室内配置有电极丝的CVD装置进行制膜处理,
上述CVD装置包括电极丝连接部件,该电极丝连接部件以贯通上述外壁的方式进行安装,并且在来自上述腔室外的电源的配线和上述电极丝之间进行电连接,
上述电极丝连接部件包括:
头部,其设于上述腔室内,用于安装上述电极丝;以及
杆部,其自上述头部贯通上述外壁,用于连接来自上述电源的上述配线,
上述头部具有:
电极丝安装部,其设于位于上述腔室的内侧的顶端部;以及
侧面,其以与上述杆部贯通上述外壁的轴向平行的方式或自上述顶端部朝向上述外壁侧逐渐扩展的方式形成,
在自上述轴向投影观察时,上述头部的上述侧面的外形与上述电极丝连接部件的外形一致。
7.根据权利要求6所述的存储介质基板的制造方法,其中,
上述存储介质基板是磁存储介质。
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C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





