[发明专利]一种材料缺陷检测方法和装置

权利要求书

1.一种材料缺陷检测方法，其特征在于，包括：

获取待检测材料的多模态数据，其中，所述待检测材料的多模态数据包括表面数据和体数据；

根据所述待检测材料的多模态数据，构建所述待检测材料的融合数据；

将所述待检测材料的融合数据和标准样本材料的融合数据进行特征对比，检测所述待检测材料的缺陷，其中，所述标准样本材料为与所述待检测材料的材料属性相同且不存在缺陷的材料。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，根据所述待检测材料的多模态数据，构建所述待检测材料的融合数据，包括：

对所述待检测材料的多模态数据进行数据同规格量化处理，得到所述待检测材料的同规格多模态数据；

对所述待检测材料的同规格多模态数据进行拼接处理，得到所述待检测材料的融合数据。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，对所述待检测材料的多模态数据进行数据同规格量化处理，得到所述待检测材料的同规格多模态数据，包括：

获取所述待检测材料的多模态数据的特征参数，其中，所述特征参数包括像素点的大小和像素点的亮度；

根据所述特征参数对所述待检测材料的多模态数据进行数据同规格量化处理，得到所述待检测材料的同规格多模态数据。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述特征参数为所述像素点的大小，根据所述特征参数对所述待检测材料的多模态数据进行数据同规格量化处理，得到所述待检测材料的同规格多模态数据，包括：

根据所述像素点的大小对所述待检测材料的多模态数据进行像素点分辨率的归一化，生成所述待检测材料的同规格多模态数据。

5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述特征参数为所述像素点的亮度，根据所述特征参数对所述待检测材料的多模态数据进行数据同规格量化处理，得到所述待检测材料的同规格多模态数据，包括：

根据所述像素点的亮度对所述待检测材料的多模态数据进行相同比特的量化，生成所述待检测材料的同规格多模态数据。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，对所述待检测材料的同规格多模态数据进行拼接处理，得到所述待检测材料的融合数据，包括：

获取所述待检测材料的同规格多模态数据对应的物理空间坐标；

根据所述物理空间坐标拼接所述待检测材料的同规格多模态数据，生成所述待检测材料的融合数据。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，将所述待检测材料的融合数据和标准样本材料的融合数据进行特征比对，检测所述待检测材料的缺陷，包括：

基于特征识别模型分别对所述待检测材料的融合数据、所述标准样本材料的融合数据进行处理，得到所述待检测材料的第一特征向量和所述标准样本材料的第二特征向量；

确定所述待检测材料的第一特征向量相对于所述标准材料的第二特征向量的余弦距离；

根据所述余弦距离对所述待检测材料的缺陷进行检测。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，根据所述余弦距离对所述待检测材料的缺陷进行检测，包括：

判断所述余弦距离是否大于余弦距离阈值；

在所述余弦距离大于所述余弦距离阈值的情况下，则确定所述待检测材料存在缺陷；

在所述余弦距离小于或者等于所述余弦距离阈值的情况下，则确定所述待检测材料不存在缺陷。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的方法，其特征在于，在基于特征识别模型分别对所述待检测材料的融合数据、标准样本材料的融合数据进行处理，得到所述待检测材料的第一特征向量和所述标准样本材料的第二特征向量之前，所述方法还包括：

建立用于识别融合数据的特征识别模型，其中，所述特征识别模型包括依次连接的第一卷积层、第二卷积层、第三卷积层、第四卷积层以及注意力模块，其中，所述第一卷积层、所述第二卷积层、所述第三卷积层和所述第四卷积层具有相同的卷积核和不同的数据类型。

10.一种材料缺陷检测装置，其特征在于，包括：

获取模块，用于获取待检测材料的多模态数据，其中，所述待检测材料的多模态数据包括表面数据和体数据；

构建模块，用于根据所述待检测材料的多模态数据，构建所述待检测材料的融合数据；

检测模块，用于将所述待检测材料的融合数据和标准样本材料的融合数据进行特征对比，检测所述待检测材料的缺陷，其中，所述标准样本材料为与所述待检测材料的材料属性相同且不存在缺陷的材料。