[发明专利]一种蜡质釉料、蜡质3D瓷砖及其制备方法

权利要求书

1.一种蜡质釉料，其特征在于，按重量份数计，所述蜡质釉料包括：第一熔块40～50份、第二熔块30～40份、气刀土8～12份、氧化锌3～5份和白云石5～8份；按质量百分数计，所述第一熔块的制备原料中含有7.5～12%的白炭黑，所述第二熔块的制备原料中含有4.6～7.6%的纳米氧化铝和5.5～9.5%的白炭黑；

按重量份数计，所述第一熔块的制备原料包括：高岭土15～18份、氧化锌6～8份、硼酸钠3～6份、叶腊石25～36份、白炭黑8～12份、碳酸锶5～8份、碳酸钠10～13份、碳酸钡12～15份和硅灰石3～5份；

按重量份数计，所述第二熔块的制备原料包括：高岭土20～25份、纳米氧化铝5～8份、碳酸钾10～15份、碳酸钠5～8份、锂辉石10～15份、白炭黑6～10份、滑石4～7份和叶腊石30～36份。

2.一种蜡质3D瓷砖，其特征在于，包括依次层叠设置的砖坯层、化妆土层、面釉层、图案层、蜡质釉层，所述面釉层、图案层及蜡质釉层中还设有凹陷的纹理，所述蜡质釉层由权利要求1所述的蜡质釉料制备得到。

3.根据权利要求2所述的蜡质3D瓷砖，其特征在于，所述纹理由模具墨水对面釉层和蜡质釉层的排斥作用制备得到，所述模具墨水按质量百分数计包括：蜡质釉料38～48%、丙烯酸树脂20～30%、醋酸乙酯20～30%、分散剂3～6%、悬浮剂0.1～0.2%、消泡剂0.2～0.3%、流平剂0.3～0.6%、pH值调节剂0.15%。

4.根据权利要求2所述的蜡质3D瓷砖，其特征在于，所述面釉层的化学组成按质量百分数计包括：SiO₂ 50～55%、Al₂O₃ 23～28%、CaO 1.5～3.1%、MgO 2.5～3.0%、K₂O 3.5～4.5%、Na₂O 2.1～4.1%、ZnO 4.5～6.5%，其余为灼减和微量杂质。

5.根据权利要求2所述的蜡质3D瓷砖，其特征在于，所述化妆土层的化学组成按质量百分数计包括：Al₂O₃ 26～32%、SiO₂ 55～60%、CaO 1.5～2.3%、MgO 1.3～2.4%、K₂O 3.5～4.6%、Na₂O 3.8～4.6%，其余为微量杂质及灼减。

6.一种如权利要求2-5任一项所述的蜡质3D瓷砖的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括步骤：

依次形成砖坯层和化妆土层；

在所述化妆土层表面沉积第一模具墨水，在所述第一模具墨水表面形成面釉层；

在所述面釉层表面形成图案层，在所述图案层表面沉积第二模具墨水，在所述第二模具墨水表面形成蜡质釉层，进行烧成，得到所述蜡质3D瓷砖。

7.根据权利要求6所述的蜡质3D瓷砖的制备方法，其特征在于，所述沉积第一模具墨水的方法和所述沉积第二模具墨水的方法均为喷墨打印法，打印灰度均为40～100%；所述烧成步骤中，烧成温度为1180～1300℃，烧成时间为40～60分钟。