[发明专利]电感耦合等离子体发射光谱仪矩管用清洗剂和清洗方法

说明书

本发明属于电感耦合等离子体发射光谱仪清洗技术领域，具体涉及一种电感耦合等离子体发射光谱仪矩管用清洗剂和清洗方法，清洗剂包括以下组成：以质量份计，聚氧乙烯型非离子表面活性剂5‑15份，焦磷酸盐10‑25份，次氯酸盐3‑5份，碱2‑5份，去离子水50‑80份。本发明的清洗剂清洁效果优异且清洁所需时间短，可轻松去除矩管表面残留的盐分、金属以及有机残留污染物等杂质，且不会对矩管造成腐蚀损害，安全性高。

技术领域

本发明属于电感耦合等离子体发射光谱仪清洗技术领域，具体涉及一种电感耦合等离子体发射光谱仪矩管用清洗剂和清洗方法。

背景技术

电感耦合等离子体发射光谱仪(ICP-AES发射光谱仪)可以连续快速的进行多元素测定，仪器的精确度高、线性范围宽，可以对样品进行定性和半定量分析，在地质、环保、化工、生物、医药、食品、冶金、农业等领域都有很广泛的应用。同时电感耦合等离子体发射光谱仪作为一种精密的原子发射光谱仪器，其价格也相当昂贵。矩管是电感耦合等离子体发射光谱仪中比较关键和重要的部件，因此需要定期的清理和维护。矩管是在电感耦合等离子体发射光谱仪使用过程中比较容易积碳和积盐的部位，在使用一段时间之后，矩管的表面容易变黑并且光滑的表面也容易变得粗糙。当矩管上有残留的污染物时可能会影响仪器点火，同时也会影响仪器的稳定性和检测灵敏度。

对于矩管的清洗方法，传统的方法是采用金和陶瓷灯刮擦工具，然而这种方式极易对矩管造成损坏，且矩管价格昂贵，材质特殊，传统的刮擦方法并不能将沉积物彻底清除干净。目前一些专利和文献报道的矩管清洗方法主要是将矩管浸泡在合适的酸或溶剂中去除上面的无机盐和金属，也有采用将矩管置于马弗炉中烘烤来去除其表面沉积的碳和一些有机污染物的方法。文献中报道的浸泡矩管所使用的酸主要为王水(HNO₃:HCl＝1:3)、浓硝酸、盐酸和硝酸的混合溶液或2％的氢氟酸溶液等，也有文献报道采用将矩管放在稀释的表面活性剂当中浸泡从而来去除矩管上的积盐。

然而，采用硝酸、王水等酸液浸泡矩管时，对长期沉积的残留污染物可能无法彻底清除，且长期浸泡可能对矩管造成损害，影响仪器检测灵敏度。由于石英炬管不能耐氢氟酸的腐蚀，采用氢氟酸浸泡矩管也会对矩管造成损害。同时王水及硝酸等强酸溶液腐蚀性和挥发性强，在配制及使用过程中若不注意防护，容易造成人身伤害。采用酸液或稀释的表面活性剂浸泡矩管时只能简单的去除矩管表面残留的无机盐类污染物，并不能全面的去除矩管表面残留的盐分、金属以及有机残留污染物质，且酸液或表面活性剂浸泡所需时间均较长。

发明内容

本发明的目的是为了克服现有技术存在的清洗液无法彻底去除矩管表面杂质且具有腐蚀性的缺陷，提供一种电感耦合等离子体发射光谱仪矩管用清洗剂和清洗方法，该清洗剂清洁效果优异且清洁所需时间短，可轻松去除矩管表面残留的盐分、金属以及有机残留污染物等杂质，且不会对矩管造成腐蚀损害，安全性高。

为了实现上述目的，第一方面，本发明提供了一种电感耦合等离子体发射光谱仪矩管用清洗剂，包括以下组成：以质量份计，聚氧乙烯型非离子表面活性剂5-15份，焦磷酸盐10-25份，次氯酸盐3-5份，碱2-5份，去离子水50-80份。

优选情况下，包括以下组成：以质量份计，聚氧乙烯型非离子表面活性剂5-10份，焦磷酸盐10-20份，次氯酸盐3-5份，碱2-5份，去离子水60-80份。

在一些优选实施方式中，所述清洗剂包括以下组成：以质量份计，聚氧乙烯型非离子表面活性剂7-10份，焦磷酸盐12-20份，次氯酸盐4-5份，碱3-5份，去离子水60-75份。

在一些优选实施方式中，所述聚氧乙烯型非离子表面活性剂、焦磷酸盐和次氯酸盐的质量比为2-3:3-4:1。

在一些优选实施方式中，所述聚氧乙烯型非离子表面活性剂为聚氧乙烯烷基醚，所述焦磷酸盐为焦磷酸四钾和/或焦磷酸钠，所述次氯酸盐为次氯酸钠和/或次氯酸钾，所述碱为氢氧化钠和/或氢氧化钾。