[发明专利]适用于机翼的环量控制方法

权利要求书

1.适用于机翼的环量控制方法，其特征在于，在机翼其翼型上表面，从靠近机翼前缘的位置开始沿翼型上表面的流体流向阵列布置多组由第一射流喷射口和第一流体吸入口组成的吹吸分离口对；

各吹吸分离口对中，第一射流喷射口设置在第一流体吸入口的上游即第一射流喷射口相较于其第一流体吸入口更靠近机翼前缘；第一射流喷射口连续向外喷射射流，喷射出的高能量射流向下游流动，不断向翼型上表面低能量的边界层注入能量；第一流体吸入口连续向内吸入周围流体，不断吸走第一射流喷射口下游的翼型上表面高压区处低能量的边界层，维持边界层的能量，以抵抗局部流体的流动分离；

沿翼型上表面的流体流向阵列布置多组吹吸分离口对之间形成吹吸接力控制效果，从而实现整个机翼其翼型上表面的流动分离控制。

2.根据权利要求1所述的适用于机翼的环量控制方法，其特征在于，所述第一射流喷射口其射流喷射方向与第一射流喷射口所在壁面切线方向一致，所述第一流体吸入口其流体吸入方向与第一流体吸入口所在壁面切线方向一致。

3.根据权利要求1所述的适用于机翼的环量控制方法，其特征在于，所述机翼翼型为具有科恩达后缘的翼型，在靠近科恩达后缘的翼型上壁面设置有第二主射流喷射口、第二接力射流喷射口和第二流体吸入口，所述第二流体吸入口设置在第二主射流喷射口的上游，第二主射流喷射口更靠近科恩达后缘，位置为科恩达后缘的起点，第二接力射流喷射口则设置在科恩达后缘处，位置为科恩达偏转气流的分离点处；

第二流体吸入口将翼型上壁面靠近科恩达后缘处低能量的边界层不断吸入，以维持上壁面流体的能量，延迟了上壁面的流动分离；第二主射流喷射口不断向科恩达壁面喷射射流，射流在科恩达后缘的作用下，沿科恩达后缘曲壁面移动，在翼型尾缘处形成偏转流体，偏转流体将会在科恩达后缘处一位置处形成分离，第二接力射流喷射口则设置在偏转流体的分离点处，向即将分离的偏转流体再次注入能量，使其进行二次偏转，使翼型具有了气动型弯曲，增大了机翼的环量。

4.根据权利要求1或2或3所述的适用于机翼的环量控制方法，其特征在于，所述机翼内设置有一个以上的第一吹吸分离合成射流激励器，每一组吹吸分离口对对应一个第一吹吸分离合成双射流激励器；所述第一吹吸分离合成射流激励器包括激励器腔体和设置在激励器腔体内的振动膜，所述激励器腔体上开设有至少一个流体入口和至少一个流体出口，所述流体入口设置有限制流体只进不出的第一单向导流结构，所述流体出口设置有限制流体只出不进的第二单向导流结构，第一吹吸分离合成射流激励器的所有流体入口均与对应的第一流体吸入口联通，第一吹吸分离合成射流激励器所有的流体出口均与对应的第一射流喷射口联通。

5.根据权利要求4所述的适用于机翼的环量控制方法，其特征在于，所述第一吹吸分离合成射流激励器中，振动膜将激励器腔体分隔为上下对称的两个腔体，上、下腔体的左侧壁上均开设有流体出口，从上、下腔体的流体出口交替喷射出射流，从上、下腔体的流体出口喷射出的射流相位相差180°；上、下腔体的右侧壁上均开设有流体入口，流体经上、下腔体的流体入口交替吸入，上、下腔体的流体入口吸入流体的相位相差180°。

6.根据权利要求3所述的适用于机翼的环量控制方法，其特征在于，所述机翼内设置有一个以上的第二吹吸分离合成射流激励器，所述第二吹吸分离合成射流激励器包括激励器腔体和设置在激励器腔体内的振动膜，所述激励器腔体上开设有至少一个流体入口和至少一个流体出口，所述流体入口设置有限制流体只进不出的第一单向导流结构，所述流体出口设置有限制流体只出不进的第二单向导流结构，第二吹吸分离合成射流激励器的所有流体入口均与第二流体吸入口联通，第二吹吸分离合成射流激励器的所有流体出口中，至少一部分与第二主射流喷射口联通，另一部分与第二接力射流喷射口联通。

7.根据权利要求5或6所述的适用于机翼的环量控制方法，其特征在于，所述第一单向导流结构为限制流体只进不出的特斯拉单向导流流道，所述第二单向导流结构为限制流体只出不进的特斯拉单向导流流道。