[发明专利]一种P型单晶太阳能电池的制备方法在审
| 申请号: | 202210443337.4 | 申请日: | 2022-04-26 |
| 公开(公告)号: | CN115621371A | 公开(公告)日: | 2023-01-17 |
| 发明(设计)人: | 连维飞;倪志春;刘松民;张景洋 | 申请(专利权)人: | 江苏爱康能源研究院有限公司;江苏爱康科技股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L31/20 | 分类号: | H01L31/20;H01L31/0747 |
| 代理公司: | 江阴市扬子专利代理事务所(普通合伙) 32309 | 代理人: | 周青 |
| 地址: | 215600 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 型单晶 太阳能电池 制备 方法 | ||
本发明涉及的一种P型单晶太阳能电池的制备方法,步骤一、选取P型单晶硅片,作为硅衬底;步骤二、获得双绒面p型单晶硅衬底;步骤三、热处理;使用高温管式或链式热处理设备对上述双绒面P型单晶硅片进行磷掺杂,在表面形成N+层和磷硅玻璃层;步骤四、去除磷硅玻璃层和N+层;步骤五、沉积本征非晶硅膜;步骤六、沉积非晶硅/微晶硅膜;步骤七、沉积透明导电薄膜;步骤八、电极印刷。本发明降低硅片成本,降低杂质对单晶硅片的影响,从而提升异质结太阳电池光电转换效率。
技术领域
本发明涉及太阳能电池制造技术领域,尤其涉及一种P型单晶太阳能电池的制备方法。
背景技术
随着太阳能电池技术的发展,高效电池的开发越来越受重视,硅基异质结太阳电池基于较高的光电转换效率,被光伏行业公认为下一代可规模化量产的光伏电池技术。常规硅基异质结太阳电池结构包括n型单晶硅基片、非晶硅膜层、透明导电薄膜、金属电极等,常规制备步骤包括:绒面制备并清洗、非晶硅沉积、透明导电膜沉积及电镀或丝网印刷制备金属电极,现有技术中,如中国专利CN107004732A、CN113488550A等,都是以n型硅片为衬底;但是N型单晶硅衬底成本较高,以及需要进行B扩散与P扩散,硅片经过两次高温扩散后,会使其内部的缺陷、位错等不良因素释放并扩大,最终影响电池效率。
发明内容
本发明的目的在于克服上述不足,提供一种P型单晶太阳能电池的制备方法,在p型单晶硅衬底上制备非晶/微晶硅钝化层和TCO薄膜,制备高效异质结太阳电池。
本发明的目的是这样实现的:
一种P型单晶太阳能电池的制备方法,它包括以下内容:
步骤一、选取P型单晶硅片,作为硅衬底;
步骤二、双面制绒;
采用湿法化学腐蚀方法在P型单晶硅片的表面制备金字塔绒面结构,获得双绒面p型单晶硅衬底;
步骤三、热处理;
使用高温管式或链式热处理设备对上述双绒面P型单晶硅片进行磷掺杂,在表面形成N+层和磷硅玻璃层;
步骤四、去除磷硅玻璃层和N+层;
采用槽式湿法化学腐蚀方式,去除P型单晶硅片表面的磷硅玻璃层和n+层;
步骤五、沉积本征非晶硅膜;
通过等离子体化学气相沉积法在上述P型单晶硅基片的前表面和背表面分别沉积本征非晶硅膜;
步骤六、沉积非晶硅/微晶硅膜;
在P型单晶硅基片一侧的本征非晶硅表面沉积不少于两层N型非晶硅/微晶硅膜,另一侧的本征非晶硅表面沉积不少于两层P型非晶硅/微晶硅膜;
步骤七、沉积透明导电薄膜;
步骤八、电极印刷。
进一步地,所用P型单晶硅片的电阻率为0.3-7Ω.cm。
进一步地,所用P型单晶硅片的厚度为80-130微米。
进一步地,步骤三中的工艺温度在600~850℃区间内。
进一步地,步骤七中通过磁控溅射或蒸发镀膜法在N型非晶硅/微晶硅膜和P型非晶硅/微晶硅膜的外表面分别沉积透明导电薄膜。
进一步地,步骤八中采用丝网印刷或电镀工艺在P型单晶硅基片的前表面、背表面分别制备金属电极。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:
本发明采用P型单晶硅片制作异质结太阳电池,降低硅片成本;同时高温热处理工艺能对制绒后的P型单晶硅片起到很好吸杂作用,降低杂质对单晶硅片的影响,从而提升异质结太阳电池光电转换效率。
附图说明
图1为本发明的P型单晶太阳电池的结构示意图。
其中:
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