[发明专利]一种陶瓷砖及其制备方法

权利要求书

1.一种陶瓷砖的制备方法，其特征在于，包括：

将坯料压制成型陶瓷砖坯体，并干燥；

将干燥后的陶瓷砖坯体一次经擦坯和喷水后，进行淋底釉获得，底釉层；

将底釉层依次进行第一次红外干燥、喷墨打印装饰图案和第二次红外干燥后，施加面釉，获得面釉层；

在陶瓷砖坯体背离所述面釉层的底面上施加砖底浆，并入窑烧制成型，获得陶瓷砖；

其中，所述底釉、面釉和砖底浆中均添加以重量分数计0.85～1.42份的添加剂；所述添加剂以重量份数计，包括：水性聚氨酯8～53份、三聚磷酸钠34～46份、防腐剂4～6份和增韧土0～52份。

2.根据权利要求1所述的陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述底釉的配方以重量份数计，包括：

钾长石10～15份、钠长石20-30份、石英7～15份、高岭土8～15份、三氧化二铝2～3份、氢氧化铝3～6份、硅酸锆4～15份、白云石0～5份、锆乳浊熔块15～25份；

其中，所述锆乳浊熔块的化学组成以及质量百份数计包括：SiO₂ 62.13％、Al₂0₃11.51％、CaO 8.07％、MgO 5.17％、K₂0 5.79％、Na₂0 2.06％和ZrO₂5.27％；所述底釉中还添加有以重量份数计1.16份的添加剂，所述添加剂以重量份数计，包括：水性聚氨酯9份、三聚磷酸钠34份、防腐剂5份和增韧土52份。

3.根据权利要求2所述的陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述底釉的配方以重量份数计，具体包括：

钾长石12份、钠长石25份、石英11.5份、高岭土11份、三氧化二铝2.5份、氢氧化铝4份、硅酸锆9份、白云石5份、锆乳浊熔块20份。

4.根据权利要求2所述的陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述底釉的配方以重量份数计，具体包括：

钾长石15份、钠长石20份、石英15份、高岭土12份、三氧化二铝3份、氢氧化铝5份、硅酸锆7份、白云石3份、锆乳浊熔块20份。

5.根据权利要求2-4任一项所述的陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述底釉的制备方法具体包括：

按照底釉的配方称取底釉原料和添加剂共101.16kg，加入水41kg，进行湿法球磨，球磨细度为过325目筛筛余0.3～0.6％，底釉的釉浆比重为1.77±0.22，底釉的釉浆流速为30～37秒；

其中，底釉淋釉时，陶瓷砖砖坯的温度为65～70℃；底釉的施釉量为280±20g/m²。

6.根据权利要求1所述的陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述面釉的配方以重量份数计，包括：

CQ5036成釉92份、高岭土7份和石英1份；

其中，所述CQ5036成釉的化学组成以质量百分比计，包括：灼减7.25％、SiO₂ 52.94％、Al₂O₃ 14.56％、Fe₂O₃ 0.17％、Ti0₂ 0.26％、CaO 9.1％、MgO4.7％、K₂0 0.93％、Na₂03.8％、ZnO 2.14％、B₂O₃ 0.18％和BaO3.97％；所述面釉中还添加有以重量份数计1.42份的添加剂，所述添加剂以重量份数计，包括：水性聚氨酯8份、三聚磷酸钠46份、防腐剂4份和增韧土42份。

7.根据权利要求6所述的陶瓷砖的制备方法，其特征在于，所述面釉的制备方法具体包括：

按照面釉的配方称取面釉原料和添加剂共101.42kg，加入水41.5kg，进行湿法球磨，球磨细度为过325目筛筛余0.3～0.6％，面釉的釉浆比重为1.78±0.02，面釉的釉浆流速为30～37秒；

施加面釉时，陶瓷砖砖坯的温度为35～45℃；面釉施釉量为150±15g/m²。