[发明专利]一种具有改善涂布均匀性的光学膜涂布用的微凹辊在审

专利信息
申请号: 202210102375.3 申请日: 2022-01-27
公开(公告)号: CN114405751A 公开(公告)日: 2022-04-29
发明(设计)人: 鹿立松;杨明 申请(专利权)人: 深圳市云松科技有限公司
主分类号: B05C1/08 分类号: B05C1/08;B05C1/00
代理公司: 南京金宁专利代理事务所(普通合伙) 32479 代理人: 张凤香
地址: 518101 广东省深圳市宝安区*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 具有 改善 均匀 光学 膜涂布用 微凹辊
【权利要求书】:

1.一种具有改善涂布均匀性的光学膜涂布用的微凹辊,包括主轴(1),其特征在于:所述主轴(1)的两端固定连接有轴承轴(5),所述轴承轴(5)的两端固定连接有动力轴(6);

所述主轴(1)的外部套设有钢制管套(2),所述钢制管套(2)的长度小于所述主轴(1)的长度;

所述钢制管套(2)的轴向外表面可拆卸套设有硬质陶瓷层(3);

所述硬质陶瓷层(3)的表面雕刻有网纹(4),且网纹(4)沿所述硬质陶瓷层(3)的径向分布;

加热层(7)包含加热丝,且加热丝呈螺旋状缠绕在加热层(7)的轴向外表面。

2.根据权利要求1所述的一种具有改善涂布均匀性的光学膜涂布用的微凹辊,其特征在于:

所述网纹(4)的形状为正方形、六边形、菱形、半圆形;

所述网纹(4)的开口角度为45°或60°;

所述网纹(4)的开口长度为133μm,所述网纹(4)的开口深度为30-50μm;

所述网纹(4)为45°~60°的斜纹结构,沿所述硬质陶瓷层(3)的径向递增,递增规律符合单调递增函数;

所述单调递增函数包括一次函数、指数函数、对数函数;

一次函数:y=kx+b,其中k>0;

指数函数:y=a^x,其中a>1;

对数函数:y=loga(x),其中a>1;

所述网纹(4)设有圆角。

3.根据权利要求1所述的一种具有改善涂布均匀性的光学膜涂布用的微凹辊,其特征在于:微凹辊的网墙宽度为8μm,微凹辊的线数为45~180线,微凹辊的直径为20-100mm。

4.根据权利要求1所述的一种具有改善涂布均匀性的光学膜涂布用的微凹辊,其特征在于:微凹辊的转移率为45%。

5.根据权利要求1所述的一种具有改善涂布均匀性的光学膜涂布用的微凹辊,其特征在于:微凹辊的涂布量为1~20μm。

6.根据权利要求1所述的一种具有改善涂布均匀性的光学膜涂布用的微凹辊,其特征在于:涂布液的固含量为15%-35%,涂布液的粘度为100-300mPa.s。

7.根据权利要求1所述的一种具有改善涂布均匀性的光学膜涂布用的微凹辊,其特征在于:通过微凹辊的网纹为45°~60°的斜纹结构,沿径向递增,在微凹辊转动的情况下,胶水沿着直线的网纹从一端流向另一端,但是胶水量逐渐减少,不会导致末端的胶水量比正常辊面要多,纹路的末端没有胶水堆积从而不会产生厚边现象,可以改善涂布厚边问题,解决了传统涂布边缘5mm宽度的位置,厚度至少有4μm左右的厚度差,本发明可以把此区域的厚度差异降低到0μm,且胶面较完整、均匀,稳定。

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