[发明专利]用于确定目标分子的存在或浓度的装置

权利要求书

1.一种用于确定目标分子的存在或浓度的装置，所述装置包括：

表面，其限定二维阵列的受体地点；

波导，其被布置为接收入射电磁辐射的至少一部分，划分所述电磁辐射和将所述电磁辐射的一部分引导至二维阵列的受体地点中的每一个；

检测器，其包括二维阵列的感测元件，每个感测元件被布置成从所述二维阵列的受体地点中的不同一个接收电磁辐射；以及

光谱滤波器，其设置在所述表面和所述检测器之间。

2.根据权利要求1所述的装置，还包括能够操作以产生电磁辐射的辐射源，其中所述波导被布置为接收由所述辐射源产生的所述电磁辐射的至少一部分，划分所述电磁辐射以及将所述电磁辐射的一部分引导至所述二维阵列的受体地点中的每一个。

3.根据权利要求2所述的装置，其中所述辐射源是宽带辐射源。

4.根据权利要求2或权利要求3所述的装置，其中所述辐射源包括白光发光二极管。

5.根据任一前述权利要求所述的装置，还包括设置在所述表面上的所述二维阵列的受体地点中的每一个上的金属纳米结构。

6.根据任一前述权利要求所述的装置，还包括设置在每个金属微结构上的受体。

7.根据任一前述权利要求所述的装置，还包括印刷电路板，并且其中所述检测器安装在所述印刷电路板上。

8.根据权利要求2所述的装置，还包括印刷电路板，并且其中所述辐射源和所述检测器都安装在所述印刷电路板上。

9.根据任一前述权利要求所述的装置，其中所述波导设置在所述检测器和限定所述二维阵列的受体地点的所述表面之间。

10.根据任一前述权利要求所述的装置，其中所述波导包括大致平坦的主体，并且其中限定所述二维阵列的受体地点的所述表面是所述主体的表面。

11.根据任一前述权利要求所述的装置，其中所述波导包括集成光学板，所述集成光学板被布置成在输入处接收由辐射源输出的所述电磁辐射，以及将所述电磁辐射散布到限定所述二维阵列的受体地点的所述表面上。

12.根据任一前述权利要求所述的装置，其中所述波导包括多个分束器或光学波导分路器，所述分束器或光学波导分路器被布置成将入射辐射散布到限定所述二维阵列的受体地点的所述表面上。

13.根据任一前述权利要求所述的装置，其中所述波导包括一个或多个光栅结构，所述光栅结构被布置成产生干涉图案，以及将所述辐射散布到限定所述二维阵列的受体地点的所述表面上。

14.根据任一前述权利要求所述的装置，还包括处理器，所述处理器能够操作以根据从所述二维阵列的受体地点中的对应一个接收的所述电磁辐射的强度来确定目标分子的浓度。

15.根据任一前述权利要求所述的装置，还包括能够操作以确定一个或多个环境条件的一个或多个传感器。

16.根据任一前述权利要求所述的装置，还包括用于从所述检测器接收信号的用户接口。

17.根据任一前述权利要求所述的装置，其中所述光谱滤波器具有10nm或更小的半峰全宽带宽。

18.根据任一前述权利要求所述的装置，其中所述光谱滤波器包括二维阵列的单独的光谱滤波器，每个单独的光谱滤波器被设置为与所述二维阵列的感测元件中的不同一个相邻。