[实用新型]光学成像系统有效
| 申请号: | 202122542049.8 | 申请日: | 2021-10-21 |
| 公开(公告)号: | CN216622815U | 公开(公告)日: | 2022-05-27 |
| 发明(设计)人: | 张永明;赖建勋;刘耀维 | 申请(专利权)人: | 先进光电科技股份有限公司 |
| 主分类号: | G02B13/00 | 分类号: | G02B13/00;G02B13/18 |
| 代理公司: | 北京伟思知识产权代理事务所(普通合伙) 11725 | 代理人: | 聂宁乐;赵丽丽 |
| 地址: | 中国台湾台中*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光学 成像 系统 | ||
1.一种光学成像系统,其特征在于,由物侧至像侧依序包含:
一第一透镜,具有正屈折力,其物侧面于光轴上为凹面,像侧面于光轴上为凸面;
一第二透镜,具有正屈折力;
一第三透镜,具有屈折力;
一第四透镜,具有屈折力;
一第五透镜,具有屈折力;以及
一成像面,其中所述光学成像系统具有屈折力的透镜为五枚,且,所述第三透镜至所述第五透镜中至少一个透镜具有正屈折力,所述第一透镜至所述第五透镜的焦距分别为f1、f2、f3、f4、f5,所述光学成像系统的焦距为f,所述光学成像镜片系统之入射瞳直径为HEP,所述第一透镜物侧面至所述成像面于光轴上具有一距离HOS,所述第一透镜物侧面至所述第五透镜像侧面于光轴上具有一距离InTL,所述光学成像系统之最大可视角度的一半为HAF,所述第一透镜至所述第五透镜于1/2 HEP高度且平行于光轴之厚度分别为ETP1、ETP2、ETP3、ETP4以及ETP5,前述ETP1至ETP5的总和为SETP,所述第一透镜至所述第五透镜于光轴之厚度分别为TP1、TP2、TP3、TP4以及TP5,前述TP1至TP5的总和为STP,其满足下列条件:2.0≤f/HEP≤2.4;45 degHAF≤55 deg以及0.5≤SETP/STP 1。
2.如权利要求1所述的光学成像系统,其中,所述第二透镜之物侧面以及像侧面于光轴上均为凸面,所述第四透镜之物侧面于光轴上为凸面并且像侧面于光轴上为凹面。
3.如权利要求1所述的光学成像系统,其中,所述第一透镜、第二透镜、所述第三透镜、所述第四透镜与第五透镜于光轴上的厚度分别为TP1、TP2、TP3、TP4以及TP5,其满足下列条件:TP4 TP2 TP5 TP1 TP3。
4.如权利要求1所述的光学成像系统,其中,所述第四透镜与第五透镜于光轴上的厚度分别为TP4以及TP5,其满足下列条件:2.1≤TP4 / TP5≤3.1。
5.如权利要求1所述的光学成像系统,其中,所述第二透镜与第四透镜于光轴上的厚度分别为TP2以及TP4,其满足下列条件: 1.2≤TP4 / TP2≤1.9。
6.如权利要求1所述的光学成像系统,其中,所述光学成像系统满足下列条件:9≤|f1/f4|≤15。
7.如权利要求1所述的光学成像系统,其中,所述光学成像系统于结像时之TV畸变为TDT,其中所述第一透镜至所述第五透镜于1/2 HEP高度且平行于光轴之厚度分别为ETP1、ETP2、ETP3、ETP4以及ETP5,前述ETP1至ETP5的总和为SETP,其满足下列公式:0.3≤SETP/EIN1以及│TDT│ 2 %。
8.如权利要求1所述的光学成像系统,其中,可见光在所述成像面上之光轴、0.3HOI以及0.7HOI三处于空间频率55 cycles/mm之调制转换对比转移率(MTF数值)分别以MTFE0、MTFE3以及MTFE7表示,其满足下列条件:MTFE0≥0.01;MTFE3≥0.01;以及MTFE7≥0.01。
9.如权利要求1所述的光学成像系统,其中,更包括一光圈,并且于所述光圈至所述成像面于光轴上具有一距离InS,其满足下列公式:0.79≤InS/HOS≤0.83。
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