[实用新型]一种具有多通路的真空吸盘有效
| 申请号： | 202122011822.8 | 申请日： | 2021-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN215357942U | 公开（公告）日： | 2021-12-31 |
| 发明（设计）人： | 王永成 | 申请（专利权）人： | 上海致领半导体科技发展有限公司 |
| 主分类号： | B24B41/06 | 分类号： | B24B41/06;B24B41/00;B24B29/02;B24B57/02;B24B55/03 |
| 代理公司： | 上海互顺专利代理事务所(普通合伙) 31332 | 代理人： | 韦志刚 |
| 地址： | 201319 上海市浦东新区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 具有 通路 真空 吸盘 | ||
【权利要求书】：
1.一种具有多通路的真空吸盘，其特征在于：包括真空吸盘(1)、吸附区域(2)、负压通路(3)以及其他一路或多路通路，所述真空吸盘(1)底部设置有多个吸附区域(2)，所述吸附区域(2)上设置有多个负压通路(3)，所述真空吸盘(1)上还设置有其他一路或多路通路。
2.根据权利要求1所述一种具有多通路的真空吸盘，其特征在于：所述吸附区域(2)设置有两个以上，并且吸附区域(2)上的负压通路(3)设置有两个以上。
3.根据权利要求1所述一种具有多通路的真空吸盘，其特征在于：所述真空吸盘(1)上设置的其他一路或多路通路设置有两个以上。
4.根据权利要求3所述一种具有多通路的真空吸盘，其特征在于：所述其他一路或多路通路分布于真空吸盘(1)中心位置。
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