[发明专利]空腔型倒置声波器件及其制备方法在审
| 申请号: | 202111647253.4 | 申请日: | 2021-12-29 |
| 公开(公告)号: | CN114301413A | 公开(公告)日: | 2022-04-08 |
| 发明(设计)人: | 潘峰 | 申请(专利权)人: | 苏州达波新材科技有限公司 |
| 主分类号: | H03H9/02 | 分类号: | H03H9/02;H03H3/02 |
| 代理公司: | 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 | 代理人: | 王锋 |
| 地址: | 215000 江苏省苏州市工业园区*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 空腔 倒置 声波 器件 及其 制备 方法 | ||
1.一种空腔型倒置声波器件,其特征在于,包括:
支撑基底,所述支撑基底表面设置有一个以上凹槽;
电极,所述电极设置于所述凹槽内,且所述电极包含叉指结构和与叉指结构配合的汇流条及电极焊盘;
压电薄膜,所述压电薄膜设置在支撑衬底表面并覆盖所述凹槽,所述电极与压电薄膜电性结合。
2.根据权利要求1所述的空腔型倒置声波器件,其特征在于,还包括:设置在所述压电薄膜上的一层或多层性能增强层。
3.根据权利要求1所述的空腔型倒置声波器件,其特征在于:所述叉指结构包括叉指换能器或者叉指换能器及反射栅,所述叉指换能器中的多条叉指交替连接信号端和地端,所述反射栅设置于所述叉指换能器两侧且相互连通。
4.根据权利要求3所述的空腔型倒置声波器件,其特征在于:所述叉指结构的线宽为100nm-50μm、相邻叉指间距为100nm-50μm、声孔孔径为4μm-1000μm。
5.根据权利要求3所述的空腔型倒置声波器件,其特征在于:所述叉指结构包含金属打底层和金属主体层,所述金属主体层设置在金属打底层上,所述金属打底层与压电薄膜直接接触。
6.根据权利要求5所述的空腔型倒置声波器件,其特征在于:所述金属打底层的材质包括Ti、Ni、Cr中的至少一种;和/或,所述金属打底层的厚度为1nm-50nm;和/或,所述金属主体层的材质包括Al、Cu、Pt、Ag、Au、Mo、W中的至少一种;和/或,所述金属主体层的厚度为5nm-5000nm;和/或,所述叉指结构的厚度为6nm-5050nm。
7.根据权利要求1所述的空腔型倒置声波器件,其特征在于:
所述汇流条和/或电极焊盘的材质及厚度与所述叉指结构相同;
或者,所述汇流条和/或电极焊盘的材质与所述叉指结构部分相同或完全相同,并且所述汇流条和/或电极焊盘的厚度大于所述叉指结构的厚度,其中所述汇流条和/或电极焊盘包括第一结构层和叠设在第一结构层上的第二结构层,所述第一结构层的厚度小于或等于所述叉指结构的厚度,所述第一结构层与第二结构层的总厚度大于所述叉指结构的厚度,所述第二结构层的材质包括Al、Cu、Pt、Ag、Au、Mo、W中的至少一种。
8.根据权利要求1所述的空腔型倒置声波器件,其特征在于:所述支撑基底表面设置有阵列排布的多个凹槽,每个所述凹槽的径向尺寸大于所述叉指结构的径向尺寸,深度大于或等于所述电极的厚度。
9.根据权利要求1所述的空腔型倒置声波器件,其特征在于:所述支撑基底上还设有气体通道,所述凹槽与气体通道连通,所述气体通道延伸至所述声波器件表面并与外部环境连通。
10.一种空腔型倒置声波器件的制备方法,其特征在于,包括:
在支撑基底表面加工形成一个以上凹槽;
在压电晶体材料内部形成损伤层;
在所述压电晶体材料的工作面上设置电极;
将所述压电晶体材料的工作面与支撑基底表面对准键合,使所述电极被置入相应的凹槽内;
将所述压电晶体材料沿损伤层解理,并使解理获得的压电薄膜与支撑基底保持键合,再对形成的键合结构进行后处理。
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