[发明专利]一种高频锰锌铁氧体材料的制备方法及设备在审

专利信息
申请号: 202111623675.8 申请日: 2021-12-28
公开(公告)号: CN114230328A 公开(公告)日: 2022-03-25
发明(设计)人: 杨美华 申请(专利权)人: 南通华兴磁性材料有限公司
主分类号: C04B35/38 分类号: C04B35/38;C04B35/622;C04B35/626;H01F41/02;H01F1/34
代理公司: 南京司南专利代理事务所(普通合伙) 32431 代理人: 于淼
地址: 226600 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 高频 铁氧体 材料 制备 方法 设备
【权利要求书】:

1.一种高频锰锌铁氧体材料的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:

S1、以Fe2O3、MnCO3和ZnO为原料,按照进行各组分原料的计量配料,通过研磨装置对原料进行研磨;

S2、将研磨后的原料进行混合,在混合过程得到粒度合适与均匀的混合粉料混合粉料;

S3、将混合粉料压成料块,在氮气中进行预烧,合成得到单相尖晶石结构MnZn铁氧体粉料;

S4、将MnZn铁氧体粉料装入模具中,在压力下压制成铁氧体素坯;

S5、将压制成型的铁氧体素坯进行烧结,从而制得超低高频损耗功率MnZn铁氧体材料。

2.根据权利要求1所述的一种高频锰锌铁氧体材料的设备,其特征在于:所述S1中的研磨装置包括研磨仓(100),所述研磨仓(100)的内腔设有研磨组件(200),所述研磨组件(200)的表面固定连接有均等上料组件(300),所述研磨组件(200)的表面固定连接有振击防堵塞组件(400),所述振击防堵塞组件(400)位于研磨组件(200)的外侧,所述研磨组件(200)的上端设有自清理出料组件(500)。

3.根据权利要求2所述的一种高频锰锌铁氧体材料的设备,其特征在于:所述研磨组件(200)包括衔接盖板(201),所述衔接盖板(201)的上端固定连接有电机(202),所述电机(202)的输出端固定连接有上磨盘(203),所述上磨盘(203)的表面开凿有通孔(2031),所述上磨盘(203)的下方设有下磨盘(204),所述下磨盘(204)固定连接在研磨仓(100)的内底端,所述下磨盘(204)的上端与上磨盘(203)的下端相接触。

4.根据权利要求2所述的一种高频锰锌铁氧体材料的设备,其特征在于:所述均等上料组件(300)包括接料框体(301)和出料框体(304),所述接料框体(301)固定连接在上磨盘(203)的上端,所述接料框体(301)的上端固定连接有推块(302),所述接料框体(301)的内底端开凿有衔接孔(303),所述衔接孔(303)与通孔(2031)之间相吻合,所述出料框体(304)固定连接在衔接盖板(201)的下端,所述出料框体(304)的内部开凿有空腔(305),所述空腔(305)的内壁固定连接有弹簧(306),所述弹簧(306)的外端固定连接有封块(307),所述封块(307)的下端固定连接有第一扭簧(307),所述第一扭簧(307)的外圆周面固定连接有限位块(308)。

5.根据权利要求4所述的一种高频锰锌铁氧体材料的设备,其特征在于:所述接料框体(301)和出料框体(304)的圆周轨迹相一致,所述第一扭簧(307)的弹性力度大于弹簧(306)的弹性力度。

6.根据权利要求2所述的一种高频锰锌铁氧体材料的设备,其特征在于:所述振击防堵塞组件(400)包括基块(401)和受击块(404),所述基块(401)固定连接在上磨盘(203)的上端,所述基块(401)的上端固定连接有第二扭簧(402),所述第二扭簧(402)的上端固定连接有击打块(403),所述受击块(404)固定连接在出料框体(304)的外端。

7.根据权利要求6所述的一种高频锰锌铁氧体材料的设备,其特征在于:所述击打块(403)和受击块(404)的圆周轨迹相一致,所述击打块(403)和受击块(404)均采用不锈钢材料制成。

8.根据权利要求2所述的一种高频锰锌铁氧体材料的设备,其特征在于:所述自清理出料组件(500)包括储料框(501),所述储料框(501)包裹在电机(202)的外圆周面,所述储料框(501)的内底端固定连接有弹性气囊(502),所述弹性气囊(502)的内部填充有氯化铵粉末(503),所述储料框(501)的内部固定连接有金属导热丝(504),所述金属导热丝(504)的外端与氯化铵粉末(503)相接触,所述储料框(501)的内底端固定连接有出料管(505),所述出料管(505)与弹性气囊(502)的上端固定连接。

9.根据权利要求8所述的一种高频锰锌铁氧体材料的设备,其特征在于:所述出料管(505)的下端位于出料框体(304)的内腔,所述出料管(505)的外圆周面与出料框体(304)的内壁相接触。

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