[发明专利]GPS天线辅助调试系统在审
申请号: | 202111539077.2 | 申请日: | 2021-12-15 |
公开(公告)号: | CN114284700A | 公开(公告)日: | 2022-04-05 |
发明(设计)人: | 蔡磊;陈斌;强铭;张星;李金辉;吴奇旦 | 申请(专利权)人: | 无锡爱德为科技有限公司 |
主分类号: | H01Q1/36 | 分类号: | H01Q1/36;H01Q1/42 |
代理公司: | 无锡智麦知识产权代理事务所(普通合伙) 32492 | 代理人: | 王普慧 |
地址: | 214000 江苏省无*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | gps 天线 辅助 调试 系统 | ||
本发明公开了GPS天线辅助调试系统,包括打磨机构、GPS天线、矢量网络分析仪、计算机,其中所述矢量网络分析仪用于获取GPS天线的S11参数,所述计算机用于计算S11参数对应的物理量,并且将调谐位置和调谐量下发给打磨机构,所述打磨机构用于对GPS天线打磨加工,所述GPS天线的表面设置有辐射面镀银层,所述打磨机构的加工端对所述辐射面镀银层打磨加工;通过本发明的设计,可以设定调试的目标S11,计算机通过已经计算得到的线性矩阵,精确计算调试量,可以指导机器进行调试,从而能够非常准确获得当前S11对应需要进行的调谐位置和调谐量,完善现有操作方式中的不足。
技术领域
本发明属于GPS天线技术领域,具体涉及GPS天线辅助调试系统。
背景技术
GPS天线由于制造过程的误差,如辐射面镀银层的尺寸,介质本体的介电常数等,导致天线的频率和回波会存在偏差,所以在制造完成后,一般都会对辐射层的镀银面进行微调,使得指标满足设计要求。其中设计规格不但要求满足回波规格要求,也要满足阻抗特性要求,才能确保天线的辐射方向图的正确的。
目前,GPS的天线主要通过人力的方式的进行调试,需要对员工进行较长时间的培训,主要通过观察S11曲线进行打磨,是以人的经验和感觉来进行的,调试效率低,且对人工能力的要求很高,因此非常不利于企业的发展,因此存在明确的机器代替人工的需求,目前已知的文献中也提出了采用AI算法可以对射频无源器件进行自动建模的方法,但是AI方法需要大量的训练,数据获取效率低,且对于计算机的要求也高,成本相对高,且操作复杂。
发明内容
本发明的目的在于提供GPS天线辅助调试系统,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:GPS天线辅助调试系统,包括打磨机构、GPS天线、矢量网络分析仪、计算机,其中所述矢量网络分析仪用于获取GPS天线的S11参数,所述计算机用于计算S11参数对应的物理量,并且将调谐位置和调谐量下发给打磨机构,所述打磨机构用于对GPS天线打磨加工。
作为本发明中一种优选的技术方案,所述GPS天线的表面设置有辐射面镀银层,所述打磨机构的加工端对所述辐射面镀银层打磨加工。
作为本发明中一种优选的技术方案,所述辐射面镀银层的四周形成八个定位点。
作为本发明中一种优选的技术方案,所述打磨机构包括加工部和放置部,在所述放置部的顶部设置有放置台,而在加工部的顶端处安装有打磨头,所述打磨头处于放置台的正上方。
作为本发明中一种优选的技术方案,所述放置台包括台体,在台体的顶部开设有呈台阶状的放置槽,所述放置槽的内侧由外至内依次放置有内板C、内板B、内板A,在所述台体的内部还放置有微型气缸,所述微型气缸的输出端与内板A的底端面相连接。
作为本发明中一种优选的技术方案,所述内板A、内板B的底部外侧均固定有支撑环,所述内板A上的支撑环与内板B底端面相抵,而处于内板B上的支撑环与内板C的底端面相抵。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:
1.通过本发明的设计,可以设定调试的目标S11,计算机通过已经计算得到的线性矩阵,精确计算调试量,可以指导机器进行调试,从而能够非常准确获得当前S11对应需要进行的调谐位置和调谐量,完善现有操作方式中的不足;
2.通过设计的内板A、内板B、内板C,能够根据防止不同大小的GPS天线,实现快速限位的目的,而在不使用中,也能够将放置台的顶部形成一个平面,不出现任何凹槽,方便放置大型或者较小型的物体,使用的灵活性得到提升。
附图说明
图1为本发明的结构示意图;
图2为本发明定位点的位置示意图;
图3为本发明打磨机构的结构示意图;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于无锡爱德为科技有限公司,未经无锡爱德为科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111539077.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。