[发明专利]一种基于等离激元纳米腔的高品质光学折射率传感器在审

专利信息
申请号: 202111364626.7 申请日: 2021-11-17
公开(公告)号: CN114062316A 公开(公告)日: 2022-02-18
发明(设计)人: 肖发俊;王其发;李晨阳;侯莉萍;赵建林 申请(专利权)人: 西北工业大学
主分类号: G01N21/41 分类号: G01N21/41
代理公司: 西北工业大学专利中心 61204 代理人: 王鲜凯
地址: 710072 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 离激元 纳米 品质 光学 折射率 传感器
【权利要求书】:

1.一种基于等离激元纳米腔的高品质光学折射率传感器,其特征在于包括基底(1)、超光滑金属膜(2)、介质层(3)和金属纳米六角板(4);基底(1)上部设有金属膜(2),金属膜(2)上为介质层(3),介质层(3)的中部为金属纳米六角板(4);所述金属膜(2)和金属纳米六角板(4)采用金属材料为金。

2.根据权利要求1所述基于等离激元纳米腔的高品质光学折射率传感器,其特征在于:所述基底(1)、金属膜(2)和介质层(3)的对边长度比金属纳米六角板的对边长度大于0.5cm。

3.根据权利要求1所述基于等离激元纳米腔的高品质光学折射率传感器,其特征在于:所述介质层(3)的材质为三氧化二铝或二氧化硅。

4.根据权利要求1所述基于等离激元纳米腔的高品质光学折射率传感器,其特征在于:所述基底(1)硅或蓝宝石材料。

5.根据权利要求1所述基于等离激元纳米腔的高品质光学折射率传感器,其特征在于:所述金属膜(2)和金属纳米六角板(4)采用金属材料为银。

6.根据权利要求1所述基于等离激元纳米腔的高品质光学折射率传感器,其特征在于:所述金属纳米六角板的对边长度为150-250nm。

7.根据权利要求1所述基于等离激元纳米腔的高品质光学折射率传感器,其特征在于:所述金属纳米六角板的厚度为30-80nm,金属膜的厚度为50-150nm,介质层的厚度为3-8nm,基底厚度为200-5000μm。

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