[发明专利]曝光装置

权利要求书

1.一种曝光装置，其特征在于，包括：

微型发光二极管显示单元，具有多个微型发光二极管，所述微型发光二极管显示单元适于个别地控制所述多个微型发光二极管的出光信号并形成预定图案；以及

第一投影光学系统，设置在所述微型发光二极管显示单元的出光路径上，所述第一投影光学系统用于将所述预定图案一次性地在感光材料层上形成曝光图案。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光图案相同或倍缩于所述预定图案。

3.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，还包括：

多个微透镜，设置在所述微型发光二极管显示单元的所述出光路径上，且位于所述微型发光二极管显示单元与所述第一投影光学系统之间。

4.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，所述微型发光二极管显示单元的出光面设有所述多个微透镜，且所述多个微透镜分别对应所述多个微型发光二极管设置。

5.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，还包括：

第二投影光学系统，设置在所述微型发光二极管显示单元的所述出光路径上，且位于所述微型发光二极管显示单元与所述多个微透镜之间。

6.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，每一所述多个微透镜的侧壁之间配置有挡光图案层。

7.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，还包括：

遮光图案层，设置在每一所述多个微型发光二极管的侧壁之间。

8.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，还包括：

遮光图案层，设置在所述微型发光二极管显示单元与所述第一投影光学系统之间，所述遮光图案层具有多个开孔，且所述多个开孔分别对应所述多个微型发光二极管设置。

9.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述第一投影光学系统具有投射倍率，且所述曝光图案与所述预定图案的尺寸比例等于所述投射倍率。

10.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，还包括：

移动平台，设置在所述第一投影光学系统远离所述微型发光二极管显示单元的一侧，其中所述感光材料层设置于所述移动平台上，且所述移动平台适于带动所述感光材料层沿着至少一方向移动；以及

控制单元，电性耦接所述移动平台和所述微型发光二极管显示单元，且用于控制所述移动平台的移动和所述微型发光二极管显示单元的所述出光信号。

11.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，还包括：

第一移动平台，其中所述微型发光二极管显示单元设置在所述第一移动平台上，且所述第一移动平台适于带动所述微型发光二极管显示单元沿着至少一方向移动；

容置空间，设置在所述第一投影光学系统远离所述微型发光二极管显示单元的一侧，所述容置空间内设有所述感光材料层；

第二移动平台，设置在所述容置空间远离所述第一投影光学系统的一侧，且适于带动所述曝光图案沿着抬升方向移动，其中所述抬升方向垂直于所述至少一方向；以及

控制单元，电性耦接所述第一移动平台、所述第二移动平台和所述微型发光二极管显示单元，且用于控制所述第一移动平台和所述第二移动平台的移动以及所述微型发光二极管显示单元的所述出光信号。