[发明专利]用于重力静脉注射套件的压力致动的流动控制装置在审
| 申请号: | 202111095194.4 | 申请日: | 2021-09-17 |
| 公开(公告)号: | CN114191643A | 公开(公告)日: | 2022-03-18 |
| 发明(设计)人: | 斯里达尔·南达库马尔;拉胡尔·普图卡德 | 申请(专利权)人: | 康尔福盛303公司 |
| 主分类号: | A61M5/14 | 分类号: | A61M5/14;A61M5/168 |
| 代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 胡彬 |
| 地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 重力 静脉注射 套件 压力 流动 控制 装置 | ||
1.一种流动控制装置,包括:
壳体,所述壳体包括:
主阀体,所述主阀体限定所述流动控制装置的主入口和出口;
次级阀体,所述次级阀体限定所述流动控制装置的次级入口,其中,所述主入口和次级入口共享公共中心轴线,并且所述出口的中心轴线相对于所述公共中心轴线垂直设置;以及
腔室,所述腔室由所述壳体的内周向表面限定,所述腔室在所述主阀体和次级阀体之间延伸,用于将所述主入口和次级入口与所述出口流体连接;以及
阀构件,所述阀构件往复地安装在所述腔室中,从而(i)当进入所述主入口的流体压力高于进入所述次级入口的流体压力时,阻止所述次级入口和所述出口之间的流体连通,以及(ii)当进入所述次级入口的流体压力高于进入所述主入口的流体压力时,阻止所述主入口和所述出口之间的流体连通。
2.根据权利要求1所述的流动控制装置,其中,所述阀构件包括能够滑动地安装在所述腔室中的柱形盘件。
3.根据权利要求2所示的流动控制装置,其中:
所述壳体包括至少一个引导轨道,所述引导轨道在所述腔室中沿着内周向表面纵向延伸;以及
所述阀构件包括沿阀构件的外周向表面纵向延伸的至少一个狭槽,所述狭槽限定了凹部,所述凹部具有对应于所述引导轨道的形状的形状,用于将所述阀构件安装到所述引导轨道上。
4.根据权利要求3所述的流动控制装置,其中:
所述至少一个引导轨道包括两个引导轨道,这两个引导轨道围绕限定所述腔室的内周向表面的中心纵向轴线对称设置;
所述至少一个狭槽包括围绕所述阀构件的中心纵向轴线对称设置的两个狭槽;并且
限定所述腔室的内周向表面的中心纵向轴线和所述阀构件的中心纵向轴线同轴对准。
5.根据权利要求2所述的流动控制装置,其中,所述阀构件还包括流动槽,所述流动槽从盘件的平面表面起并且沿着所述阀构件的外周向表面纵向地延伸。
6.根据权利要求2所述的流动控制装置,其中,所述主阀体和主阀体一体地形成为单个单元。
7.一种流动控制装置,包括:
壳体,所述壳体包括主入口、主出口、次级入口和次级出口,其中,所述主入口和次级入口共享公共中心轴线,所述公共中心轴线相对于所述主出口和次级出口的中心轴线垂直设置;
腔室,所述腔室由所述壳体的内周向表面限定,所述腔室在所述主入口和次级入口之间延伸,用于将所述主入口与主出口以及所述次级入口与次级出口流体连接;以及
阀构件,所述阀构件往复地安装在所述腔室中,从而(i)当进入所述主入口的流体压力高于进入所述次级入口的流体压力时,阻止所述次级入口和次级出口之间的流体连通,以及(ii)当进入所述次级入口的流体压力高于进入所述主入口的流体压力时,阻止所述主入口和主出口之间的流体连通。
8.根据权利要求7所述的流动控制装置,其中:
所述内周向表面包括限定所述主入口的入口端口的主密封表面、限定所述次级入口的入口端口的次级密封表面;并且
所述阀构件包括盘件,所述盘件具有对应于所述主密封表面的主入口密封表面和对应于所述次级密封表面的次级入口密封表面,以及用于选择性地密封所述主出口和次级出口的出口密封表面。
9.根据权利要求8所述的流动控制装置,其中,所述主入口密封表面包括平面轮廓,并且所述次级入口密封表面包括非平面轮廓。
10.根据权利要求9所述的流动控制装置,其中,所述阀构件的次级入口密封表面包括曲线轮廓。
11.根据权利要求9所述的流动控制装置,其中,所述阀构件的次级入口密封表面包括凹形轮廓。
12.根据权利要求8所述的流动控制装置,其中,所述壳体的主密封表面包括平面轮廓,并且所述壳体的次级密封表面包括非平面轮廓。
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