[发明专利]一种新型三维中空形光场生成方法与装置在审
| 申请号: | 202110886687.3 | 申请日: | 2021-08-03 |
| 公开(公告)号: | CN113703170A | 公开(公告)日: | 2021-11-26 |
| 发明(设计)人: | 朱大钊;丁晨良;匡翠方;徐良;李海峰;刘旭 | 申请(专利权)人: | 之江实验室;浙江大学 |
| 主分类号: | G02B27/09 | 分类号: | G02B27/09;G02B27/28 |
| 代理公司: | 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 | 代理人: | 孙孟辉 |
| 地址: | 310023 浙江省杭州市余*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 新型 三维 中空 形光场 生成 方法 装置 | ||
1.一种新型三维中空形光场生成装置,沿光路依次包括:起偏器(1)、1/2半波片(2)、滤波透镜(3)、滤波小孔(4)、准直透镜(5)、第一锥透镜(6)、第二锥透镜(7)、DMD(8)、SLM(9)、第一1/4波片(10)、反射镜(11)和第二1/4波片(12),其特征在于:光束进入该装置后,经起偏器(1)转化为线偏光,线偏光经过所述1/2波片(2)之后光束由滤波透镜(3)汇聚,在滤波透镜(3)的焦面上设置滤波小孔(4),经过滤波小孔(4)后的光束被准直透镜(5)再次准直为平行光;
准直之后的平行光依次经过第一锥透镜(6)和第二锥透镜(7),入射到DMD (8),光束被DMD(8)反射至SLM(9)左半屏幕上,再被反射至所述反射镜(11),被反射镜(11)反射后入射到SLM(9)右半屏幕上,光束在SLM(9)和反射镜(11)之间两次经过第一1/4波片(10),从SLM(9)右半屏幕出射光束经过第二1/4波片(12)。
2.根据权利要求1所述的新型三维中空形光场生成装置,其特征在于:通过旋转1/2波片(2)使s分量和p分量能量相同。
3.根据权利要求1所述的新型三维中空形光场生成装置,其特征在于:所述滤波小孔(4)用于滤除边缘杂散光,提高光束数量。
4.根据权利要求1所述的新型三维中空形光场生成装置,其特征在于:所述第一锥透镜(6)和第二锥透镜(7)组成透镜组,用于调制光束能量分布,使其截面能量分布为环形。
5.根据权利要求1所述的新型三维中空形光场生成装置,其特征在于:所述SLM(9)左右半屏加载不同的相位图,左侧加载涡旋相位,右侧加载一个起始点随半径变化且旋向相反的涡旋相位。
6.根据权利要求1所述的新型三维中空形光场生成装置,其特征在于:s光和p光被第二1/4波片12转化为旋向相反的圆偏光,并相干叠加,形成复杂偏振态分布的光束,该光束被聚焦后形成的3D HLF。
7.一种新型三维中空形光场生成方法,包括如下步骤:
步骤一、激光器发出的激光准直为平行光束;
步骤二、将光束通过4f系统,在4f系统焦面处放置一小孔,进行小孔滤波,得到高质量高斯光束;
步骤三、将得到高斯光束通过一组锥透镜对,所述锥透镜对由两个方向相反的锥透镜组成,用于形成环形光束;
步骤四、使用光阑滤除光束边缘杂散光;
步骤五、将平行光束经过起偏器,转化为线偏光;同时旋转起偏器使通过起偏器的能量最大;线偏光正交分解为两个分量,p偏振光和s偏振光;
步骤六、采用0-2π涡旋相位掩膜对p分量进行相位调制,使其带有涡旋波前相位;
步骤七、采用另一起始点随半径变化且旋向相反的涡旋相位掩膜对s分量进行调制;
步骤八、将光束通过1/4波片后聚焦,得到3D HLF。
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