[发明专利]OPC模型仿真方法

权利要求书

1.一种OPC模型仿真方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤一、建立精度判断函数；

所述精度判断函数的数据点包括多个，所有的所述数据点形成数据集；

所述精度判断函数由所述数据集中的各所述数据点对应的OPC模型的仿真点和晶圆上的实际点的差值的平方乘以权重后相叠加形成；

所述仿真点由光刻工艺的光学系统的多个光学卷积核对应的非线性拟合函数得到，所述光学卷积核的系数为拟合参量；

步骤二、进行数据随机采样，包括：

设置由多台计算机组成的计算集群，每台所述计算机对应于一个以上的计算节点，各所述计算节点形成分布式计算节点并能实现并行计算；

采用随机分发的方式对所述数据集进行数据分配，每个所述计算节点都从所述数据集中随机抽取部分数据点进行拟合；

在分配数据的同时，给每个所述计算节点分配由各所述拟合参量组成的拟合参量空间的当前状态值；

计算各所述计算节点对应的局部精度判断函数，所述局部精度判断函数由所述计算节点中随机抽取的部分数据点组成的数据子集中的各所述数据点对应的仿真点和晶圆上的实际点的差值的平方乘以权重后相叠加形成；

所述精度判断函数为各所述局部精度判断函数的和；

步骤三、采用所述分布式计算节点并行计算各所述局部精度判断函数的梯度，所述局部精度判断函数的梯度为所述局部精度判断函数对各所述拟合参量的偏导值的叠加值；

计算各所述局部精度判断函数的梯度的一阶导数和一阶近似值，所述局部精度判断函数的梯度的一阶导数为所述局部精度判断函数的梯度对各所述拟合参量的偏导值的叠加值；所述计算节点的梯度的一阶近似值为根据所述局部精度判断函数的梯度的一阶导数计算得到的所述局部精度判断函数的梯度的一阶展开值；

步骤四、进行梯度的合成和迭代；

所述梯度的合成包括：根据当前状态的所述精度判断函数的梯度和所述计算节点的梯度的一阶近似值进行计算得到合成后的所述精度判断函数的梯度；

对所述拟合参量空间进行优化，包括：根据所述拟合参量空间的当前状态值和合成后的所述精度判断函数的梯度进行计算得到所述拟合参量空间的优化值；

采用所述拟合参量空间的优化值作为所述拟合参量空间的当前状态值以及采用合成后的所述精度判断函数的梯度作为当前状态的所述精度判断函数，之后重复进行步骤二、步骤三和步骤四直至所述精度判断函数的值达到拟合精度。

2.如权利要求1所述的OPC模型仿真方法，其特征在于：所述数据集中的数据点的数量为数千个以上。

3.如权利要求1所述的OPC模型仿真方法，其特征在于：所述实际点为所述光刻工艺的光学系统的光强在所述晶圆上的实际分布值。

4.如权利要求3所述的OPC模型仿真方法，其特征在于：所述仿真点为所述OPC模型中对所述实际点的仿真值。

5.如权利要求4所述的OPC模型仿真方法，其特征在于：所述光学系统中包括光罩。

6.如权利要求5所述的OPC模型仿真方法，其特征在于：所述OPC模型的仿真点采用所述精度判断函数的值达到拟合精度时对应的所述拟合参量空间的各所述拟合参量设置并完成所述OPC模型的仿真。

7.如权利要求6所述的OPC模型仿真方法，其特征在于：根据仿真完成后的所述OPC模型设置所述光罩。

8.如权利要求1所述的OPC模型仿真方法，其特征在于：步骤四中，所述梯度的合成的计算为：将当前状态的所述精度判断函数的梯度和乘以第一系数后的所述计算节点的梯度的一阶近似值进行相加得到合成后的所述精度判断函数的梯度。

9.如权利要求1所述的OPC模型仿真方法，其特征在于：步骤四中，对所述拟合参量空间进行优化的计算为：将所述拟合参量空间的当前状态值减去乘以第二系数后的合成后的所述精度判断函数的梯度得到所述拟合参量空间的优化值。